[發(fā)明專利]平板探測器的使用方法和控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410579442.6 | 申請日: | 2014-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN104320595B | 公開(公告)日: | 2017-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姬長勝;J·S·墨子 | 申請(專利權(quán))人: | 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/32 | 分類號: | H04N5/32;H04N5/225 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201807 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平板 探測器 使用方法 控制 裝置 | ||
1.一種平板探測器的使用方法,其特征在于,包括:
計算第k次照射在所述平板探測器上的使用面積;
根據(jù)預(yù)估的所述平板探測器有效面積上探測單元累計所接受的劑量以及所述使用面積,確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測器的有效面積上的位置分布范圍,使所述平板探測器的有效面積上所接受的累積劑量均勻,其中,所述探測單元是所述平板探測器上的一個成像像素點,所述根據(jù)預(yù)估的所述平板探測器有效面積上探測單元累計所接受的劑量以及所述使用面積,確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測器的有效面積上的位置分布范圍包括:
檢測當(dāng)射野的中心在所述平板探測器上的不同探測單元時,所述平板探測器的有效面積上探測單元累計所接受的劑量;
選取使所述平板探測器所接受的累計劑量最平均時射野中心所在的探測單元,作為所述射野的中心在平板探測器上的位置;
根據(jù)所述射野的中心在平板探測器上的位置以及所述使用面積,劃定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測器的有效面積上的位置分布范圍。
2.如權(quán)利要求1所述的平板探測器的使用方法,其特征在于,所述計算第k次照射在所述平板探測器上的使用面積包括:
根據(jù)第k次照射確定的射野、照射源到所述平板探測器的距離以及照射源到被照射物的距離,計算本次照射在所述平板探測器上的使用面積。
3.如權(quán)利要求1所述的平板探測器的使用方法,其特征在于,
通過公式依次計算所述射野的中心在每個探測單元上時,各探測單元所接受的累計劑量的均方差;
其中,所述TDk(i,j)為所述平板探測器有效面積上的探測單元(i,j)在第k次照射成像后所接受的累積劑量;所述TDk為所述平板探測器各探測單元在第k次照射成像后所接受的平均累計劑量;所述i,j均為正整數(shù)。
4.如權(quán)利要求3所述的平板探測器的使用方法,其特征在于,所述平板探測器有效面積上的探測單元(i,j)在第k次照射成像后所接受的累積劑量,通過TDk-1(i,j)+I(i,j)k/Gk計算;
其中,TDk-1(i,j)為所述平板探測器有效面積上的探測單元(i,j)在第k次成像前累積接受的劑量;I(i,j)k為第k次成像中所述探測單元(i,j)的預(yù)估成像灰度值;Gk為第k次成像中的平板探測器增益。
5.如權(quán)利要求1所述的平板探測器的使用方法,其特征在于,檢測當(dāng)所述射野的中心在所述平板探測器上的不同探測單元時,所述平板探測器的有效面積上探測單元累計所接受的劑量之前,還包括:
根據(jù)所述平板探測器有效面積分布區(qū)域的邊緣與所述使用面積的分布區(qū)域之間的距離,確定所述射野中心于所述平板探測器上的可選范圍。
6.一種平板探測器的控制裝置,其特征在于,包括:
計算單元,用于計算第k次照射在所述平板探測器上的使用面積;
判定單元,用于根據(jù)預(yù)估的所述平板探測器有效面積上探測單元累計所接受的劑量以及所述使用面積,確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測器的有效面積上的位置分布范圍,使所述平板探測器的有效面積上所接受的累積劑量均勻,其中,所述探測單元是所述平板探測器上的一個成像像素點,
所述判定單元包括:
檢測子單元,用于檢測當(dāng)射野的中心在所述平板探測器上的不同探測單元時,所述平板探測器的有效面積上探測單元累計所接受的劑量;
選取子單元,用于選取使所述平板探測器所接受的累計劑量最平均時射野中心所在的探測單元,作為所述射野的中心在平板探測器上的位置;
劃定子單元,用于根據(jù)所述射野的中心在平板探測器上的位置以及所述使用面積,劃定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測器的有效面積上的位置分布范圍。
7.如權(quán)利要求6所述的平板探測器的控制裝置,其特征在于,所述計算單元根據(jù)第k次照射確定的射野、照射源到所述平板探測器的距離以及照射源到被照射物的距離,計算本次照射在所述平板探測器上的使用面積。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司,未經(jīng)上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410579442.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:儲物柜物品查看系統(tǒng)
- 下一篇:氮化鋼構(gòu)件及其制造方法





