[發明專利]防塵薄膜組件有效
| 申請號: | 201410562748.0 | 申請日: | 2014-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN104570590B | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發明(設計)人: | 關原一敏 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/62 | 分類號: | G03F1/62 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防塵 薄膜 組件 | ||
1.一種防塵薄膜組件,其為至少一對邊長是大于500mm的矩形的防塵薄膜組件,其特征在于:僅在一個方向的一對相對邊的以邊中心為中心的邊長的40~80%的區域,該防塵薄膜組件的框架的寬度通過使框架的內側壁凹陷而變細,并且該變細的區域的框架寬度為從3mm以上6mm以下選擇的一定值。
2.如權利要求1所述的防塵薄膜組件,其特征在于,從上述框架的寬度細的部位的兩端到相鄰邊或者一直到相對邊的相同部位連接有加強構件。
3.如權利要求2所述的防塵薄膜組件,其特征在于,在上述加強構件的光掩模側的表面未設置光掩模粘合層,在防塵薄膜組件粘貼之后,上述加強構件呈從光掩模表面分離的狀態。
4.如權利要求2或3所述的防塵薄膜組件,其特征在于,上述加強構件的防塵薄膜側的表面與框架的防塵薄膜側的表面處于同一平面上,并且,在該表面上設有防塵薄膜膠粘層,粘貼有防塵薄膜。
5.如權利要求2~3中任一項所述的防塵薄膜組件,其特征在于,上述加強構件與框架一體地加工。
6.如權利要求2~3中任一項所述的防塵薄膜組件,其特征在于,上述加強構件的截面形狀為在光掩模側具有頂點的三角形狀或光掩模側的表面寬度變窄的梯形狀。
7.如權利要求1~3中任一項所述的防塵薄膜組件,其特征在于,光掩模粘合層在防塵薄膜組件整周上以相同的寬度設置,并且,沿著框架外周形狀而配置。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





