[發明專利]攝像頭內微米級異物提取裝置及提取分析方法無效
| 申請號： | 201410557067.5 | 申請日： | 2014-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN104266859A | 公開（公告）日： | 2015-01-07 |
| 發明（設計）人： | 李朝玲 | 申請（專利權）人： | 三星高新電機（天津）有限公司 |
| 主分類號： | G01N1/02 | 分類號： | G01N1/02;G01N23/00 |
| 代理公司： | 天津市三利專利商標代理有限公司 12107 | 代理人： | 韓新城 |
| 地址： | 300385 天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 攝像頭 微米 異物 提取 裝置 分析 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種攝像頭內微米級異物提取裝置，其特征在于，包括提取裝置以及固定于所述提取裝置上的鎢針，所述鎢針的尖端曲率半徑為90～110nm。?
2.根據權利要求1所述微米級異物提取裝置，其特征在于，所述鎢針的尖端曲率半徑為100nm。?
3.根據權利要求1或2所述攝像頭內微米級異物提取裝置，其特征在于，所述鎢針的純度為99.99％。
4.一種攝像頭內微米級異物提取分析方法，其特征在于，采用權利要求1-3任一項所述攝像頭內微米級異物提取裝置進行，具體包括以下步驟：?
在金相顯微鏡下，利用物理吸附法用所述攝像頭內微米級異物提取裝置對微米級異物進行提取；?
將表面吸附異物的鎢針置于掃描電鏡SEM樣品臺上進行噴金處理；?
將噴金處理后表面吸附異物的鎢針置于掃描電鏡SEM設備中；?
利用X-射線能譜儀EDS對異物進行成分分析，將結果中W元素扣除，得到真實的異物成分。?
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