[發明專利]基板傳送裝置

有效

• 申請號: 201410550430.0
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN104576476B
• 公開（公告）日: 2018-10-09
• 發明（設計）人: 藤井嚴;龜崎厚治;江藤謙次;佐佐木康次
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67
• 代理公司: 北京華夏正合知識產權代理事務所(普通合伙) 11017
• 代理人: 韓登營;栗濤

1.一種基板傳送裝置，用于傳送能夠因自重而變形的基板，其特征在于，其具有機械手部、多個定位墊和至少一個支承墊，其中，

所述機械手部具有用于放置所述基板的放置面；

所述多個定位墊以自所述放置面起的第1高度支承放置在所述放置面上的所述基板的周緣；

所述支承墊設置在所述放置面上，其支承放置在所述放置面上的所述基板的下表面，具有高于上述第1高度的第2高度，

所述支承墊具有基部和轉動體，其中，所述轉動體由導電性材料構成，配置于所述基部的上表面，至少能夠以一個軸為中心相對于所述基部轉動。

2.根據權利要求1所述的基板傳送裝置，其特征在于，

所述多個定位墊具有在所述放置面內，于一個軸方向上相對的至少一對定位墊，

所述一對定位墊具有：

第1支承面，其能夠支承所述基板的周緣且具有所述第1高度；

第1臺階部，其設置在所述第1支承面上，能夠限定所述基板在所述一個軸方向上的位置。

3.根據權利要求2所述的基板傳送裝置，其特征在于，

所述一對定位墊中的至少一方的定位墊還具有：

第2支承面，其設置于所述第1臺階部，具有高于所述第1高度且低于所述第2高度的第3高度，并可以支承所述基板的周緣；

第2臺階部，其設置在所述第2支承面上，能夠限定所述基板在所述一個軸方向上的位置。

4.根據權利要求1所述的基板傳送裝置，其特征在于，

所述機械手部包括多個軸部，所述多個軸部沿著第1軸方向延伸，并在與所述第1軸方向垂直的第2軸方向上排列；

所述多個定位墊分別設置于所述多個軸部中至少位于外側的一對軸部上；

所述支承墊配置有多個，設置于所述多個軸部中至少位于內側的一對軸部上的多個支承墊。

5.一種基板處理裝置，具有基板傳送裝置、真空傳送室和處理室，其中，

所述基板傳送裝置具有機械手部、多個定位墊和至少一個支承墊，其中，所述機械手部具有用于放置能夠因自重而變形的所述基板的放置面；所述多個定位墊以自所述放置面起的第1高度支承放置在所述放置面上的所述基板的周緣；所述支承墊設置在所述放置面上，其支承放置在所述放置面上的所述基板的下表面，具有高于所述第1高度的第2高度，

所述真空傳送室內配置有所述基板傳送裝置，

所述處理室至少有一個，與所述真空傳送室隔著閘閥而配置，

所述支承墊具有基部和轉動體，其中，所述轉動體由導電性材料構成，配置于所述基部的上表面，至少能夠以一個軸為中心轉動。