[發明專利]光致抗蝕劑回收系統及其方法

在審

• 申請號: 201410548284.8
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN105487338A
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發明（設計）人: 謝國信;羅健賓
• 申請（專利權）人: 力晶科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

技術領域

本發明涉及一種半導體制作工藝的試劑回收系統及其方法，且特別是涉 及一種光致抗蝕劑回收系統及其方法。

背景技術

在半導體制作工藝中，經常使用各種液體來進行不同的制作工藝，例如 在光刻制作工藝中使用光致抗蝕劑液(photoresist，簡稱PR)。其中，在光刻 制作工藝的光致抗蝕劑涂布步驟時，將光致抗蝕劑液利用例如是旋涂法、網 版印刷法或者噴印法等方法，涂布于晶片(wafer)上。

在實際輸送光致抗蝕劑至機臺時，往往會存在一些問題，而影響整個產 品的良率及成本。舉例來說，當光致抗蝕劑瓶內的光致抗蝕劑液低于某一存 量時，光致抗蝕劑液會無法通過加壓光致抗蝕劑瓶的方式來送出，造成管路 噴空而于光致抗蝕劑液內產生氣泡，因此影響光致抗蝕劑液的品質與輪廓外 觀以及產品的良率。為了解決上述問題，有人提出在光致抗蝕劑輸送裝置上 設置計數裝置或計時裝置，來管控光致抗蝕劑液使用量。然而，通過計數裝 置或計時裝置來管控光致抗蝕劑液使用量的方式相當耗費人力成本。此外， 亦會有人員計算失誤的問題發生，造成管路噴空導致所送出之光致抗蝕劑液 具有氣泡。另外，因為不同產品所需使用的光致抗蝕劑液量不同，所以無法 有效地精準控制光致抗蝕劑液的使用率，而造成光致抗蝕劑液殘量過多與光 致抗蝕劑液浪費等問題。

另一方面，生產成本降低對于半導體制造業來說越來越關鍵，面對商業 上的競爭，必須改善生產成本，例如控制生產成本、縮小制作工藝線寬、或 節省生產原物料等。然而，為了排除產生在光致抗蝕劑瓶與管線內的多余氣 泡，或者為了更換光致抗蝕劑瓶時所殘留的光致抗蝕劑液，使得剩余的光致 抗蝕劑液的殘留量無法再用于生產，而導致了光致抗蝕劑液的浪費。日積月 累下，造成了生產成本的增加，而使得競爭力下降。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光致抗蝕劑回收系統，用以回收光致抗蝕劑 液，避免因排除光致抗蝕劑瓶或管路內的多余氣泡，或者更換光致抗蝕劑空 瓶時所導致的光致抗蝕劑液的浪費，可有效降低生產成本。

本發明的目的在于提供一種光致抗蝕劑回收方法，用以簡便地回收光致 抗蝕劑液，有助于降低生產成本。

為達上述目的，本發明的光致抗蝕劑回收系統，包括：儲存瓶，用以存 放光致抗蝕劑液，儲存瓶具有瓶蓋，在瓶蓋上設有第一接頭、第二接頭與第 三接頭；加壓裝置，與第一接頭連接；排出管路，與瓶蓋的第二接頭連接； 第一切換裝置，設置于排出管路上；第二切換裝置，設置于儲存瓶與第一切 換裝置之間的排出管路上；回收管路，連接第三接頭以及在第一切換裝置與 第二切換裝置之間的排出管路；以及第三切換裝置，設置于回收管路上。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的第一接頭為快速 接頭。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的第二接頭還具有 第二接頭抽取管路延伸至靠近儲存瓶的瓶底處，用以抽取光致抗蝕劑液；第 三接頭設置有第三接頭抽取管路，用以回收光致抗蝕劑液。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的加壓裝置為氮氣 加壓裝置。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統還包括：暫存桶， 其是設置于儲存瓶與第二切換裝置之間的排出管路上，并且暫存桶通過輸送 管路連接至機臺。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統還包括：偵測器， 其是設置于儲存瓶與暫存桶之間的排出管路上。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的排出管路是通過 三通接頭與回收管路連接。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的三通接頭的材質 為鐵氟龍。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的第一切換裝置、 第二切換裝置與第三切換裝置為二向閥。

在本發明的一實施例中，上述的光致抗蝕劑回收系統的二向閥的材質為 鐵氟龍。