[發明專利]一種(NH4)2V4O9薄膜及其制備方法有效
| 申請號： | 201410546405.5 | 申請日： | 2014-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN104310477A | 公開（公告）日： | 2015-01-28 |
| 發明（設計）人： | 楊雪梅;鄧建國;劉忠平;紀蘭香;白小峰;馬春彥 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院化工材料研究所 |
| 主分類號： | C01G31/00 | 分類號： | C01G31/00;C03C17/22;C23C18/16 |
| 代理公司： | 四川省成都市天策商標專利事務所 51213 | 代理人： | 伍孝慈 |
| 地址： | 621000 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 nh sub 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種(NH4)2V4O9薄膜的制備方法，其特征在于該方法包括以下步驟：
A，前驅體溶液的制備
將還原劑和去離子水按物質的量之比6～9：22000～33000加入反應容器中后，超聲10～30min，然后按含釩化合物與還原劑的物質的量之比7～23：1向反應容器中加入含釩化合物，接著攪拌10～30min；
最后，按導向劑與還原劑的物質的量之比450～1050：6～9向反應容器中滴加導向劑，攪拌10～60min，得到前驅體溶液；
B，(NH4)2V4O9薄膜的制備
取干凈的基底和步驟A得到的前驅體溶液，放入反應釜中，然后密封反應釜、靜止一段時間，接著將密封的反應釜置入烘箱中加熱至140～240℃，恒溫反應6～50h后，自然冷卻，取出基底并用洗滌溶液洗滌，在溫度為60～80℃的條件下干燥4～10h，得到所述的(NH4)2V4O9薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟A中，所述的還原劑選自酒石酸、草酸、蘋果酸、醋酸或檸檬酸。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟A中，所述的含釩化合物選自五氧化二釩或偏釩酸銨。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟A中，所述的導向劑選自氨水或氯化銨。
5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟B中，所述的基底選自石英基底、普通玻璃基底、導電玻璃基底、銅基底或鉑基底。
6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟B中，所述的反應釜為聚四氟乙烯內膽高壓釜。
7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟B中，前驅體溶液的用量為反應釜體積的40～95％。
8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟B中，所述的靜止時間為1～12h。
9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于在步驟B中，所述的洗滌溶劑為水和無水乙醇；洗滌方法是用水和無水乙醇交替洗滌。
10.根據權利要求1～9任意一項所述的制備方法得到的一種(NH4)2V4O9薄膜。
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