[發(fā)明專利]一種產(chǎn)品制作過(guò)程中硅片表面的檢測(cè)方法及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410544833.4
• 申請(qǐng)日: 2014-10-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104319246A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-01-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷士斌;張林;田小讓;何延如;趙冠超;楊榮;孟原;郭鐵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新奧光伏能源有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種產(chǎn)品制作過(guò)程中硅片表面的檢測(cè)方法，其特征在于，包括：

獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像；

根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面類型；

如果所述表面類型為無(wú)缺陷型，將所述硅片進(jìn)行所述產(chǎn)品制作過(guò)程的下一步工序處理；

如果所述表面類型為不可修復(fù)缺陷型，將所述硅片進(jìn)行廢棄處理；

如果所述表面類型為可修復(fù)缺陷型，將所述硅片進(jìn)行修復(fù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像，包括：

通過(guò)掃描獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像，根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面類型，包括：

獲取所述硅片的一個(gè)表面的表面圖像；

根據(jù)所述一個(gè)表面的表面圖像確定所述一個(gè)表面的表面類型；

如果所述一個(gè)表面的表面類型是不可修復(fù)缺陷型，確定所述硅片的表面類型為不可修復(fù)型；

如果所述一個(gè)表面的表面類型是可修復(fù)型或者無(wú)缺陷型，獲取所述硅片的另一個(gè)表面的表面圖像；

根據(jù)所述另一個(gè)表面的表面圖像確定所述另一個(gè)表面的表面類型；

如果所述另一個(gè)表面的表面類型為不可修復(fù)缺陷型，確定所述硅片的表面類型為不可修復(fù)型；

如果兩個(gè)表面的表面類型均為無(wú)缺陷型，確定所述硅片的表面類型為無(wú)缺陷型；

如果至少一個(gè)表面的表面類型為可修復(fù)缺陷型，確定所述硅片的表面類型為可修復(fù)型。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，獲取所述硅片的一個(gè)表面的表面圖像，包括：

使用第一圖像采集裝置獲取所述硅片的一個(gè)表面的表面圖像；

獲取所述硅片的另一個(gè)表面的表面圖像，包括：

使用與所述第一圖像采集裝置相對(duì)設(shè)置的第二圖像采集裝置獲取所述硅片的另一個(gè)表面的表面圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面類型，包括：

如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整且無(wú)液體殘留，確定所述硅片的表面類型為無(wú)缺陷型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整，但存在液體殘留，確定所述硅片的表面類型為可修復(fù)型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面不完整，確定所述硅片的表面類型為不可修復(fù)型；或者，

如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整、成膜均勻且完整，確定所述硅片的表面類型為無(wú)缺陷型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整，但薄膜材料部分區(qū)域沒(méi)有成膜或者成膜不均勻，確定所述硅片的表面類型為可修復(fù)型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面不完整，確定所述硅片的表面類型為不可修復(fù)型；或者，

如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整，且絲網(wǎng)斷點(diǎn)數(shù)少于N1個(gè)點(diǎn)，確定所述硅片的表面類型為無(wú)缺陷型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面完整，絲網(wǎng)斷點(diǎn)數(shù)在N1～N2之間，確定所述硅片的表面類型為可修復(fù)型；如果根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面不完整和/或絲網(wǎng)斷點(diǎn)數(shù)大于N2，確定所述硅片的表面類型為不可修復(fù)型，N2大于N1，且均為整數(shù)。

6.一種產(chǎn)品制作過(guò)程中硅片表面的檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括：

圖像采集子系統(tǒng)，用于獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像；

分類處理裝置，用于根據(jù)所述表面圖像確定所述硅片的表面類型；如果所述表面類型為無(wú)缺陷型，將所述硅片傳送到所述產(chǎn)品制作過(guò)程的下一步工序的處理裝置；如果所述表面類型為不可修復(fù)缺陷型，將所述硅片傳送到廢棄處理裝置；如果所述表面類型為可修復(fù)缺陷型，將所述硅片傳送到修復(fù)裝置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述圖像采集子系統(tǒng)具體用于：

通過(guò)掃描獲取用于制作產(chǎn)品的硅片的表面圖像。