[發明專利]一種掩膜框架、掩膜板及其制作方法有效
| 申請號： | 201410540132.3 | 申請日： | 2014-10-13 |
| 公開（公告）號： | CN104298069A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發明（設計）人： | 吳海東;金泰逵;白娟娟;馬群 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 框架 掩膜板 及其 制作方法 | ||
1.一種掩膜框架，其特征在于，包括框架主體、彈性裝置以及位于框架主體相對的兩側的兩個固定部，每個所述固定部通過所述彈性裝置與所述框架主體連接固定。
2.根據權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述固定部通過多個彈性裝置與所述框架主體連接固定，且多個彈性裝置在框架主體相對的兩側均勻分布。
3.根據權利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，位于所述框架主體相對兩側的多個彈性裝置相互錯位設置。
4.根據權利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述框架主體可用于支撐掩膜條，以使得所述掩膜條與所述固定部連接固定，所述彈性裝置與所述掩膜條在框架主體的安裝位置一一對應。
5.根據權利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述固定部與所述框架主體的材質相同。
6.根據權利要求1)5任一項所述的掩膜框架，其特征在于，所述彈性裝置為彈簧。
7.一種掩膜板，其特征在于，包括多個掩膜條以及權利要求1)6任一項所述的掩膜框架，所述掩膜條相對的兩端分別與位于框架主體相對兩側的固定部固定。
8.一種掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：擠壓固定部，彈性裝置發生彈性形變以使得所述固定部靠近框架主體，將掩膜條與所述固定部連接固定，取消擠壓。
9.根據權利要求8所述的制作方法，其特征在于，在將掩膜條與所述固定部連接固定之前，所述方法還包括：拉伸掩膜條。
10.根據權利要求8或9所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜條與所述固定部焊接固定。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
