[發明專利]一種液體涂布裝置

在審

• 申請號: 201410538091.4
• 申請日: 2014-10-13
• 公開（公告）號: CN105487353A
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發明（設計）人: 尹寧
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;B05C5/02;B05C11/06
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

技術領域

本發明涉及半導體行業晶片處理設備，具體地說是一種用于涂布 顯影液的液體涂布裝置。

背景技術

半導體集成電路制造過程中需要對曝光后的晶圓進行顯影操作。 對于12寸的晶圓，現有的顯影液涂布裝置需要經過特定的路徑對晶 圓表面進行顯影液涂布。由于路徑限制，顯影液涂布在晶圓表面各處 的時間有差異，導致晶圓表面各處的顯影時間不同，顯影不均勻，降 低了產品晶圓良率。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于涂布顯影液的液體涂布裝置。該 液體涂布裝置可同時對整個晶圓表面進行顯影液涂布，避免由于顯影 時間不同造成的顯影不均勻現象發生。

本發明的目的是通過以下技術方案來實現的：

本發明包括噴嘴蓋及噴嘴主體，其中噴嘴蓋與噴嘴主體密封連 接，中間形成密閉腔室，所述噴嘴蓋上設有進液口，所述噴嘴主體上 開有螺旋狀的流道，該流道內設有排出顯影液的出液孔；由所述進液 口流入的顯影液流至所述流道中，并從所述出液孔排出，同時涂布于 整個晶圓的表面。

其中：所述噴嘴蓋上設有排氣孔；所述進液口的軸向中心線與排 氣孔的軸向中心線平行，且分別垂直于所述噴嘴主體；所述出液孔按 螺旋狀分布，與所述流道的螺旋狀軌跡相對應；所述噴嘴蓋為中空的 圓錐狀，其頂端設有進液口，所述噴嘴蓋下端的邊緣通過密封圈與所 述噴嘴主體密封連接。

本發明的優點與積極效果為：

1.本發明的液體涂布裝置具有螺旋狀的流道和出液孔，顯影液 通過螺旋狀的流道從出液孔流出，螺旋狀分布的出液孔可將顯影液同 時涂布在整個晶圓表面，使晶圓表面顯影均勻，保證了產品晶圓良率。

2.本發明的噴嘴蓋上具有排氣孔，避免排氣不暢造成的顯影液 不均勻和氣泡。

附圖說明

圖1為本發明的立體結構示意圖；

圖2為本發明的主視剖視圖；

圖3為本發明噴嘴主體的結構示意圖；

其中：1為噴嘴蓋，2為進液口，3為排氣孔，4為噴嘴主體，5 為密封圈，6為密閉腔室，7為流道，8為出液孔。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步詳述。

如圖1～3所示，本發明包括噴嘴蓋1及噴嘴主體4，其中噴嘴 蓋1為中空的圓錐狀，其頂端設有進液口2，噴嘴蓋1下端的邊緣通 過密封圈5與噴嘴主體4密封連接。噴嘴蓋1上設有排氣孔3，該排 氣孔3位于進液口2的一側，設置在噴嘴蓋1軸向截面一側的斜邊上。 進液口2的軸向中心線與排氣孔3的軸向中心線平行，且分別垂直于 噴嘴主體4。

噴嘴主體4為圓盤狀，外邊緣通過密封圈5與噴嘴蓋1密封連接， 中間開成密閉腔室6。噴嘴主體4上開有螺旋狀的流道7，該流道7 內設有排出顯影液的出液孔8；該出液孔8按螺旋狀分布，與流道(7) 的螺旋狀軌跡相對應。

本發明的工作原理為：

噴嘴蓋1與噴嘴主體4之間用密封圈5進行密封，形成密閉腔室 6，防止顯影液泄漏。顯影液從進液口2流入密閉腔室6中，流入螺 旋狀的流道7內，并從螺旋分布的出液孔8排出，同時涂布于整個晶 圓的表面。顯影液逐漸布滿密閉腔室6，密閉腔室6內原有的氣體從 排氣孔3排出。