[發明專利]鍍膜玻璃及其制造方法、應用該鍍膜玻璃的電子裝置

在審

• 申請號: 201410517872.5
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN105522789A
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 陳杰良;魏朝滄;簡士哲;廖名揚
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B9/04;B32B33/00;C23C14/35;C23C14/08;C03C17/245
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 彭輝劍

1.一種鍍膜玻璃，其包括玻璃基板及結合于該玻璃基板至少一表面的膜層，其特征在于：該膜層中含有Al₂O₃、Cr₂O₃和ZrO₂。

2.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于：所述膜層中Al₂O₃的質量分數為94%~96%，Cr₂O₃的質量分數為1.7%~3.8%，ZrO₂的質量分數為0.8%~2.3%。

3.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于：所述膜層的厚度范圍為1~4μm。

4.一種鍍膜玻璃的制造方法，其包括如下步驟：

提供玻璃基板；

采用磁控濺射法，以鋁靶、鉻靶和鋯靶為靶材，以氧氣為反應氣體，在玻璃基板的表面濺鍍膜層，該膜層中含有Al₂O₃、Cr₂O₃和ZrO₂。

5.如權利要求4所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：濺鍍膜層的工藝參數為：同時開啟鋁靶、鉻靶和鋯靶，鋁靶的功率為5~15KW，鉻靶的功率為0.5~5KW，鋯靶的功率為0.5~5KW，通入反應氣體氧氣，氧氣的流量為100~400sccm，鍍膜室內的溫度為150~250℃，施加于玻璃基板10的偏壓為-300~0V，鍍膜時間為120~960分鐘。

6.如權利要求4所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述膜層Al₂O₃的質量分數為94%~96%，Cr₂O₃的質量分數為1.7%~3.8%，ZrO₂的質量分數為0.8%~2.3%。

7.如權利要求4所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述膜層的厚度范圍為1~4μm。

8.如權利要求4所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述方法還包括在濺鍍膜層之前洗靶和高電壓氬離子輝光清洗玻璃基板的步驟。

9.一種應用權利要求1~3所述的鍍膜玻璃的電子裝置，該電子裝置還包括主體，所述鍍膜玻璃裝設于該主體上。