[發明專利]鍍膜玻璃及其制造方法、應用該鍍膜玻璃的電子裝置

在審

• 申請號: 201410517872.5
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN105522789A
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 陳杰良;魏朝滄;簡士哲;廖名揚
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B9/04;B32B33/00;C23C14/35;C23C14/08;C03C17/245
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 彭輝劍

技術領域

本發明涉及一種鍍膜玻璃、該鍍膜玻璃的制造方法及應用該鍍膜玻璃的電子裝置。

背景技術

玻璃因具有較好的透光性而被廣泛應用。然，因玻璃的表面抗刮性較差，不能滿足產品所需要的抗刮性能，而影響了其使用效果和適用范圍。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種抗刮性能較好的鍍膜玻璃。

另，還有必要提供一種上述鍍膜玻璃的制造方法。

另，還有必要提供一種應用上述鍍膜玻璃的電子裝置。

一種鍍膜玻璃，其包括玻璃基板及結合于該玻璃基板至少一表面的膜層，該膜層含有Al₂O₃、Cr₂O₃和ZrO₂。

一種鍍膜玻璃的制造方法，其包括如下步驟：提供玻璃基板；采用磁控濺射法，以鋁靶、鉻靶和鋯靶為靶材，以氧氣為反應氣體，在玻璃基板的表面濺鍍膜層，該膜層中含有Al₂O₃、Cr₂O₃和ZrO₂。

一種應用所述鍍膜玻璃的電子裝置，該電子裝置還包括主體，所述鍍膜玻璃裝設于該主體上。

所述鍍膜玻璃通過在玻璃基板的表面鍍覆含有Al₂O₃、Cr₂O₃和ZrO₂的膜層，使鍍膜玻璃具有較好的抗刮性能。

附圖說明

圖1為本發明較佳實施方式的鍍膜玻璃的示意圖。

圖2為本發明所使用的真空鍍膜機的俯視圖。

圖3為應用圖1所述鍍膜玻璃的電子裝置。

主要元件符號說明

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施方式的鍍膜玻璃100，其包括玻璃基板10和結合于該玻璃基板10至少一表面的膜層20。該膜層20含有氧化鋁（Al₂O₃）、氧化鉻（Cr₂O₃）和氧化鋯（ZrO₂）。

所述膜層20中的Al₂O₃可增加膜層20的硬度與抗刮性。所述膜層20中的Cr₂O₃可增加膜層20與玻璃基板10的附著性，并強化膜層20的韌性。所述膜層20中的ZrO₂可強化膜層20的韌性。

所述膜層20的厚度范圍為1~4μm，該膜層20中所含Al₂O₃的質量分數為94%~96%，含Cr₂O₃的質量分數為1.7%~3.8%，含ZrO₂的質量分數為0.8%~2.3%。

一種制造上述鍍膜玻璃100的方法，其包括如下步驟：

提供玻璃基板10。

請進一步參閱圖2，提供一真空鍍膜機200，其包括一鍍膜室21及連接于鍍膜室21的一真空泵30，該真空泵30用以對鍍膜室21抽真空。該鍍膜室21內設有轉架(未圖示)、鋁靶22、鉻靶23和鋯靶24。

對玻璃基板10進行表面預處理，該表面預處理可包括常規的對玻璃基板10進行清洗等步驟，將預處理后的玻璃基板10烘干后固定于鍍膜室21內的轉架上。轉架可帶動玻璃基板10沿圓形的軌跡25公轉，且玻璃基板10在沿軌跡25公轉時亦自轉。

抽真空：開啟真空泵30，將鍍膜室21抽真空至8×10^-5~3×10^-4Torr。

洗靶：通入工作氣體氬氣，氬氣的流量為100~300標況毫升每分鐘（sccm），在恒定功率5~10KW下，洗靶3~5分鐘，以將鋁靶22、鉻靶23和鋯靶24表面的氧化物及油漬等雜質清除。

繼續對鍍膜室21抽真空并加熱，用真空泵300抽真空至8×10^-5~3×10^-4Torr，將鍍膜室21的溫度加熱至150~250℃。