[發(fā)明專利]一種新型坩堝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410516320.2 | 申請日: | 2014-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN104233197A | 公開(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳學兵 | 申請(專利權)人: | 蘇州普京真空技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;F27B14/10 |
| 代理公司: | 蘇州廣正知識產(chǎn)權代理有限公司 32234 | 代理人: | 劉述生 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 坩堝 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及坩堝,特別是涉及一種新型坩堝。
背景技術
現(xiàn)有的蒸鍍或冶煉工藝中通常利用坩堝容納蒸鍍材料,在蒸鍍材料的過程中,由于坩堝加熱時采用底部加熱,所示坩堝內部材料各處的溫度不一致,導致蒸鍍材料受熱不均勻,容易發(fā)生蒸鍍材料局部噴濺,影響蒸鍍成品的良品率,或者在蒸鍍或冶煉時,剛過內部材料部分噴濺、而部分材料卻還未受熱蒸發(fā)、坩堝底部材料由于溫度過高又容易粘接等確點。
發(fā)明內容
本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種新型坩堝,可防止坩堝內物體在蒸發(fā)或加熱時因受熱不均勻而導致部分物體蒸發(fā),而另一部分物體還留在坩堝內部或者粘接在坩堝底部,有效的解決了坩堝內材料浪費、坩堝清洗困難、清洗不干凈等缺點。
為解決上述技術問題,本發(fā)明采用的一個技術方案是:提供一種新型坩堝,包括坩堝本體、底部中間加熱通道、側面加熱通道和連接法蘭,所述底部中間加熱通道設置在坩堝本體底部,所述側面加熱通道設置在坩堝本體側面并且與底部中間加熱通道相連接,所述坩堝本體與底部加熱通道之間設置有一散熱室,所述坩堝本體成方型狀,所述連接法蘭設置在坩堝本體上端口處。
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述側面加熱通道包括正面加熱通道、背面加熱通道、左側加熱通道及右側加熱通道,所述正面加熱通道及背面加熱通道分別設置在坩堝本體前后面上,所述左側加熱通道及右側加熱通道分別設置在坩堝本體的左右兩個側面。
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述散熱室內上下間距為35~45mm。
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述連接法蘭與坩堝本體一次加工成型。
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述連接法蘭上面設置有T型槽。
在本發(fā)明一個較佳實例中,所述坩堝本體底部三分之一處設置有防粘涂層。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種新型坩堝,可防止坩堝內物體在蒸發(fā)或加熱時因受熱不均勻而導致部分物體蒸發(fā),而另一部分物體還留在坩堝內部或者粘接在坩堝底部,有效的解決了坩堝內材料浪費、坩堝清洗困難、清洗不干凈等缺點。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖,其中:
圖1是本發(fā)明一種新型坩堝一較佳實施例的結構示意圖;
圖2是圖1的左視圖;
圖3是圖1的俯視圖。
附圖中各部件的標記如下:1、堝本,2、底部中間加熱通道,3、正面加熱通道,4、背面加熱通道,5、左側加熱通道,6、右側加熱通道,7、散熱室,8、連接法蘭,9、T型槽。
具體實施方式
下面將對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
本發(fā)明實施例包括:
請參閱圖1至圖3,一種新型坩堝,包括坩堝本體1、底部中間加熱通道2、正面加熱通道3、背面加熱通道4、左側加熱通道5、右側加熱通道6、散熱室7、連接法蘭8,所述底部中間加熱通道2設置在坩堝本體1底部,所述正面加熱通道3及背面加熱通道4分別設置在坩堝本體1前后面上,所述左側加熱通道5及右側加熱通道6分別設置在坩堝本體1的左右兩個側面,所述坩堝本體1與底部加熱通道2之間設置有一散熱室7,所述各加熱管道相通。
上述中,所述底部加熱通道2內進入的熱量分別從正面加熱通道3、背面加熱通道4、左側加熱通道5、右側加熱通道6內對坩堝進行加熱,而由于底部熱量最多,所以散熱室7可以使熱量均勻散發(fā),保證坩堝本體內部物料均與受熱。
進一步,所述散熱室內上下間距為35~45mm,通過反復實驗,得到散熱室的間距為35~45mm時,坩堝本體1底部的溫度與四個側面的溫度均衡。
進一步,所述連接法蘭8與坩堝本體1一次加工成型,且連接法蘭上面設置有T型槽9,方便安裝拎手。
進一步,所述坩堝本體1底部三分之一處設置有防粘涂層(圖中未示出),主要用來防止物料粘接,坩堝難以清洗。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種新型坩堝,可防止坩堝內物體在蒸發(fā)或加熱時因受熱不均勻而導致部分物體蒸發(fā),而另一部分物體還留在坩堝內部或者粘接在坩堝底部,有效的解決了坩堝內材料浪費、坩堝清洗困難、清洗不干凈等缺點。
以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內容所作的等效結構或等效流程變換,或直接或間接運用在其它相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
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