[發(fā)明專利]一種新型坩堝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410516320.2
• 申請日: 2014-09-30
• 公開（公告）號: CN104233197A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發(fā)明（設計）人: 陳學兵
• 申請（專利權）人: 蘇州普京真空技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;F27B14/10
• 代理公司: 蘇州廣正知識產(chǎn)權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

1.一種新型坩堝，其特征在于，包括坩堝本體、底部中間加熱通道、側面加熱通道和連接法蘭，所述底部中間加熱通道設置在坩堝本體底部，所述側面加熱通道設置在坩堝本體側面并且與底部中間加熱通道相連接，所述坩堝本體與底部加熱通道之間設置有一散熱室，所述坩堝本體成方型狀，所述連接法蘭設置在坩堝本體上端口處。

2.根據(jù)權利要求1所述的新型坩堝，其特征在于，所述側面加熱通道包括正面加熱通道、背面加熱通道、左側加熱通道及右側加熱通道，所述正面加熱通道及背面加熱通道分別設置在坩堝本體前后面上，所述左側加熱通道及右側加熱通道分別設置在坩堝本體的左右兩個側面。

3.根據(jù)權利要求1所述的新型坩堝，其特征在于，所述散熱室內(nèi)上下間距為35～45mm。

4.根據(jù)權利要求1所述的新型坩堝，其特征在于，所述連接法蘭與坩堝本體一次加工成型。

5.根據(jù)權利要求1所述的新型坩堝，其特征在于，所述連接法蘭上面設置有T型槽。

6.根據(jù)權利要求1所述的新型坩堝，其特征在于，所述坩堝本體底部三分之一處設置有防粘涂層。