[發明專利]形成下陷圖案方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品

在審

• 申請號: 201410509577.5
• 申請日: 2014-09-28
• 公開（公告）號: CN105523779A
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 蔡憲宗;蔡憲龍;林志升
• 申請（專利權）人: 中國制釉股份有限公司
• 主分類號: C04B41/85
• 分類號: C04B41/85;C04B41/86
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

技術領域

本發明涉及陶瓷、磁磚或玻璃制品的制造方法，特別是涉及在陶瓷、磁 磚或玻璃制品的表面上形成凹凸圖案的方法，此方法所使用的具下陷功能材 料以及具下陷功能材料的制備方法。

背景技術

為了增加陶瓷及磁磚產品的美觀，除了以不同顏色的圖案裝飾之外，還 會在陶瓷及磁磚產品的表面上形成凹凸圖案，達到立體的裝飾效果。目前在 陶瓷及磁磚產品的表面上形成凹凸圖案的方式包含在陶瓷及磁磚載體成型 階段，使用具有凹凸花樣的模具，讓陶瓷及磁磚載體表面在上釉之前即具有 凹凸形狀，然后才進行上釉及印刷上色步驟。

然而，陶瓷及磁磚載體表面的凹凸形狀的高低落差會導致后續的印刷上 色步驟只能印到凸起的部位，對于凹下的部位無法印刷上色，而且陶瓷及磁 磚載體表面上的凹凸形狀的位置與印刷上色的位置很容易發生對位誤差，產 生錯位問題，導致陶瓷及磁磚產品的美觀受到影響，造成陶瓷及磁磚的產品 良率下降。

發明內容

本發明的目的在于提供一種具下陷功能的材料，將具下陷功能的材料應 用在陶瓷、磁磚及玻璃制品的制造上，不需要使用具有凹凸花樣的模具，即 可在陶瓷、磁磚及玻璃制品的表面上產生下陷圖案，使得陶瓷、磁磚及玻璃 制品的外觀具有立體凹凸圖案。

為達上述目的，在本發明的一些實施例中，提供形成下陷圖案的方法， 此方法包含：提供載體，載體的材料包含陶瓷、磁磚或玻璃；在載體的表面 之上施加面釉層；以印花制作工藝在載體的表面之上施加具下陷功能的材 料；以及進行燒制步驟，在面釉層中形成下陷圖案，其中下陷圖案對應于具 下陷功能的材料所施加的區域。

在本發明的一些實施例中，提供具下陷功能的材料，包含：對面釉層具 下陷功能的粉體，此具下陷功能粉體的熔點低于面釉層的軟化點，且具下陷 功能的粉體選自于由BiVO₄、Bi₂Te₃及GaSb所組成的群組。

在一些實施例中，具下陷功能的材料選自于由BiVO₄、Bi₂Te₃、GaSb、 鉛(Pb)及鉈(Tl)所組成的群組。

在本發明的一些實施例中，還提供具下陷功能材料的制造方法，此方法 包含：提供多種金屬氧化物，這些金屬氧化物的熔點低于面釉材料的軟化點， 并且這些金屬氧化物選自于由Sb₂O₃、Bi₂O₃、V₂O₅及TeO₂所組成的群組； 以及將這些金屬氧化物混合，經過鍛燒和研磨制作工藝，得到具下陷功能的 粉體。

在本發明的一些實施例中，提供具有下陷圖案的制品，包含：載體，載 體的材料包含陶瓷、磁磚或玻璃；面釉層覆蓋于載體的表面上，此面釉層中 具有下陷圖案；以及具下陷功能的材料，對應于下陷圖案的區域，且位于面 釉層中。

附圖說明

為了讓本發明的目的、特征、及優點能更明顯易懂，以下配合所附的附 圖作詳細說明如下：

圖1A-圖1D為本發明的一些實施例，在陶瓷、磁磚及玻璃制品的表面 上形成下陷圖案的方法的各制造階段的局部剖面示意圖；

圖2A-圖2D為本發明的另一些實施例，在陶瓷、磁磚及玻璃制品的表 面上形成下陷圖案的方法的各制造階段的局部剖面示意圖；

圖3A-圖3D為本發明的一些其他實施例，在陶瓷、磁磚及玻璃制品的 表面上形成下陷圖案的方法的各制造階段的局部剖面示意圖；

圖4A-圖4D為本發明的另一些其他實施例，在陶瓷、磁磚及玻璃制品 的表面上形成下陷圖案的方法的各制造階段的局部剖面示意圖。

符號說明

10～陶瓷、磁磚或玻璃載體；

12～面釉層；

14～具下陷功能材料；

16～燒制步驟；

18～下陷圖案；

20～陶瓷、磁磚或玻璃制品；

22～化妝釉層。

具體實施方式