[發明專利]形成下陷圖案方法、具下陷功能材料及其制造方法和制品

在審

• 申請號: 201410509577.5
• 申請日: 2014-09-28
• 公開（公告）號: CN105523779A
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 蔡憲宗;蔡憲龍;林志升
• 申請（專利權）人: 中國制釉股份有限公司
• 主分類號: C04B41/85
• 分類號: C04B41/85;C04B41/86
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種形成下陷圖案的方法，包括：

提供一載體，該載體的材料包含陶瓷、磁磚或玻璃；

在該載體的一表面之上施加一面釉層；

以一印花制作工藝在該載體的該表面之上施加一具下陷功能材料；以及

進行一燒制步驟，在該面釉層中形成一下陷圖案，其中該下陷圖案對應 于該具下陷功能材料施加的區域。

2.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中施加該面釉層的步驟 在施加該具下陷功能材料的步驟之前。

3.如權利要求2所述的形成下陷圖案的方法，在施加該面釉層的步驟之 前，還包括在該載體的該表面上施加一化妝釉層。

4.如權利要求2或3所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該面釉層 的步驟之后，以及在施加該具下陷功能材料的步驟之前，還包括在該面釉層 上施加一有顏色的釉料，且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色不同。

5.如權利要求2或3所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該面釉層 的步驟之后，以及在施加該具下陷功能材料的步驟之前，還包括在該面釉層 上施加一有顏色的釉料，且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色相同。

6.如權利要求2或3所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之后，還包括在該具下陷功能材料上施加一有顏色的釉料， 且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色不同。

7.如權利要求2或3所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之后，還包括在該具下陷功能材料上施加一有顏色的釉料， 且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色相同。

8.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中施加該面釉層的步驟 在施加該具下陷功能材料的步驟之后。

9.如權利要求8所述的形成下陷圖案的方法，在施加該具下陷功能材料 的步驟之前，還包括在該陶瓷或磁磚載體的該表面上施加一化妝釉層。

10.如權利要求8或9所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之前，還包括在該載體的該表面上施加一有顏色的釉料，且 該有顏色的釉料與該面釉層的顏色相同。

11.如權利要求8或9所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之前，還包括在該載體的該表面上施加一有顏色的釉料，且 該有顏色的釉料與該面釉層的顏色不同。

12.如權利要求8或9所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之后，以及在施加該面釉層的步驟之前，還包括在該具下陷 功能材料上施加一有顏色的釉料，且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色不 同。

13.如權利要求8或9所述的形成下陷圖案的方法，其中在施加該具下陷 功能材料的步驟之后，以及在施加該面釉層的步驟之前，還包括在該具下陷 功能材料上施加一有顏色的釉料，且該有顏色的釉料與該面釉層的顏色相 同。

14.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中該具下陷功能材料包 括一具下陷功能粉體以及一輔助添加劑，且該具下陷功能粉體的熔點低于該 面釉層的軟化點。

15.如權利要求14所述的形成下陷圖案的方法，其中該具下陷功能粉體 選自于由BiVO₄、Bi₂Te₃、GaSb、鉛(Pb)及鉈(Tl)所組成的群組。

16.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中該印花制作工藝包括 網版印刷、滾筒印刷、數字噴墨印刷、人工涂布或使用轉寫紙。

17.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中該面釉層的厚度范圍 在0.3mm～3mm之間，且該具下陷功能材料的厚度范圍在0.01mm～0.3mm 之間。

18.如權利要求1所述的形成下陷圖案的方法，其中該面釉層的材料為硅 酸鹽玻璃，該硅酸鹽玻璃是由玻璃網絡形成劑、中間離子和變性劑所組成的 混合物。