[發明專利]檢測裝置、光刻裝置以及物品的制造方法

有效

• 申請號: 201410506206.1
• 申請日: 2014-09-28
• 公開（公告）號: CN104516214B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 赤松昭郎
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 李今子

1.一種檢測裝置，檢測設置于基板的多個標記，其特征在于，該檢測裝置包括：

第1觀測儀器，向所述多個標記中的第1標記照射第1光，通過由所述第1標記反射的光檢測所述第1標記；

第2觀測儀器，向所述多個標記中的與所述第1標記不同的第2標記照射第2光，通過由所述第2標記反射的光檢測所述第2標記；以及

光學部件，具有透過所述第1光而使所述第1光入射到所述基板的透過部分和反射所述第2光而使所述第2光入射到所述基板的面，

通過改變入射到所述光學部件的所述第1光的入射位置和由所述光學部件的所述面反射的所述第2光的反射位置的相對位置，所述第1光照射的所述基板上的照射位置與所述第2光照射的所述基板上的照射位置之間的距離發生變化。

2.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述光學部件構成為使得透過了所述透過部分之后的朝向所述基板的所述第1光的主光線和由所述面反射之后的朝向所述基板的所述第2光的主光線平行。

3.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述光學部件構成為使得透過了所述光學部件之后的朝向所述基板的所述第1光的主光線和由所述面反射之后的朝向所述基板的所述第2光的主光線相對所述基板的表面分別垂直。

4.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述光學部件中的所述面構成為使得從所述第1觀測儀器射出的所述第1光透過、并且反射從所述第2觀測儀器射出的所述第2光。

5.根據權利要求4所述的檢測裝置，其特征在于，

所述第1光以及所述第2光具有相互不同的偏振特性，

在所述光學部件中的所述面設置有根據光的偏振特性使光反射或者透過的偏振分束膜，

所述偏振分束膜透過所述第1光且反射所述第2光。

6.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述第1光是第1波長頻帶的光，所述第2光是與所述第1波長頻帶不同的波長頻帶的光，

在所述光學部件中的所述面設置有根據波長頻帶使光反射或者透過的二向色膜，

所述二向色膜透過所述第1光且反射所述第2光。

7.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

在所述光學部件中的所述面，設置有對從所述第2觀測儀器射出的所述第2光進行反射的反射膜。

8.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述第1觀測儀器以使透過了所述透過部分的光的焦點的高度不發生變化的方式針對所述光學部件相對地移動。

9.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述第1觀測儀器被配置成其光軸與所述基板的表面垂直，

所述第2觀測儀器被配置成所述第1觀測儀器的光軸與所述第2觀測儀器的光軸之間的角度小于90度。

10.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

在所述光學部件中的所述面接合有棱鏡。

11.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

通過在所述第1標記和所述第2標記排列的方向上改變入射到所述光學部件的所述第1光的入射位置和由所述光學部件的所述面反射的所述第2光的反射位置的相對位置，所述第1光照射的所述基板上的照射位置與所述第2光照射的所述基板上的照射位置之間的距離發生變化。

12.根據權利要求11所述的檢測裝置，其特征在于，

通過將所述第1觀測儀器在所述方向上移動，改變入射到所述光學部件的所述第1光的入射位置和由所述光學部件的所述面反射的所述第2光的反射位置在所述方向上的相對位置。

13.根據權利要求11所述的檢測裝置，其特征在于，

通過將所述光學部件在所述方向上移動，改變入射到所述光學部件的所述第1光的入射位置和由所述光學部件的所述面反射的所述第2光的反射位置在所述方向上的相對位置。

14.根據權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，

所述面相對于所述基板傾斜地配置，

所述光學部件具有所述第1光入射的第2面，所述第2面與所述基板的表面平行地配置。