[發明專利]一種浸漬型Re3W-Sc2O3混合基陰極材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201410506057.9
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN104299869B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發明（設計）人: 劉偉;汪強;王金淑;董麗然;朱曉策;劉祥;周美玲;左鐵鏞
• 申請（專利權）人: 北京工業大學
• 主分類號: H01J23/04
• 分類號: H01J23/04
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司11203
• 代理人: 張慧

1.一種浸漬型Re₃W-Sc₂O₃混合基陰極材料，其特征在于，其特點在于：以Re₃W取代W，制備Re₃W-Sc₂O₃混合基陰極，其中稀土氧化物Sc₂O₃約占總質量的3-8wt％，浸漬陰極發射活性鹽為“411鹽”焙燒物，最終制得鋁酸鋇鈣鹽中氧化鋇、氧化鈣、氧化鋁的摩爾比為4:1:1。

2.一種浸漬型Re₃W-Sc₂O₃混合基陰極材料的制備方法，其特征在于，主要包括以下步驟：

(1)將制得的Re₃W粉末與Sc(NO₃)₃酒精溶液在潔凈燒杯中混合，水浴加熱并不斷攪拌，直至蒸干。將得到的塊狀物研碎過篩，在高純氫氣氣氛中分解得到Re₃W與Sc₂O₃混合粉末，Sc₂O₃占Sc₂O₃與Re₃W總質量的3-8wt％，之后將粉末在壓制壓力5-10t/cm²下進行壓制，隨后在高純高純氫氣氣氛下進行燒結，燒結溫度1800-2000℃，保溫20-40min，得到陰極基體材料；

(2)以硝酸鋇、硝酸鈣、硝酸鋁和碳酸銨為原料，各硝酸鹽含量按照摩爾比為4:1:1的BaO、CaO、Al₂O₃的含量配比。將各種硝酸鹽原料溶解，充分混合后，緩慢加入過量碳酸銨溶液，直至陽離子沉淀完全；經靜置、抽濾、烘干后得到的粉末在1450-1650℃焙燒，制備出浸漬用活性鹽。在高純氫氣氣氛下對陰極基體進行浸漬以獲得浸漬型Re₃W-Sc₂O₃混合基陰極材料。

3.按照權利要求2的方法，其特征在于，Sc₂O₃占Sc₂O₃與Re₃W總質量的5wt％。

4.按照權利要求2的方法，其特征在于，壓制壓力10t/cm²。

5.按照權利要求2的方法，其特征在于，燒結溫度2000℃。