[發明專利]陣列基板的制造方法，陣列基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201410498639.7
• 申請日: 2014-09-25
• 公開（公告）號: CN104252078B
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 郤玉生;王章濤;李承珉
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1339;H01L21/77;H01L27/12
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

形成透明導電層，其包括透明導電電極和透明襯墊，其中，所述透明襯墊與所述透明導電電極同步形成，所述透明襯墊在襯底基板上的投影位于第一柵線區域；其中，襯底基板上需要形成柵線的區域為柵線走線區域，在濺射形成柵線時與靶材之間相對的柵線走線區域為第一柵線區域，在濺射形成柵線時與靶材相對的柵線走線區域為第二柵線區域；

所述透明導電層形成在襯底基板之上為第一透明導電層，所述第一透明導電層的透明導電電極為第一透明導電電極，所述第一透明導電層的透明襯墊為第一透明襯墊且所述第一透明襯墊位于第一柵線區域內；

在第一透明襯墊和襯底基板的柵線走線區域之上形成柵線；

在柵線和形成有第一透明導電層及柵線的襯底基板之上形成柵絕緣層；

在柵絕緣層之上形成數據線；

在數據線和柵絕緣層之上形成保護層；

其中，所述第一柵線區域內的所述第一透明襯墊，柵線，柵絕緣層，數據線和保護層形成第一柱狀隔墊物襯墊；所述第二柵線區域內的柵線，柵絕緣層，數據線和保護層形成第二柱狀隔墊物襯墊；

所述透明導電層還形成在保護層之上為第二透明導電層，所述第二透明導電層的透明導電電極為第二透明導電電極，所述第二透明導電層的透明襯墊為第二透明襯墊且所述第二透明襯墊位于第一柵線區域上方的保護層之上，所述第一柱狀隔墊物襯墊還包括所述第二透明襯墊。

2.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

在襯底基板的柵線走線區域之上形成柵線；

在柵線和形成有柵線的襯底基板之上形成柵絕緣層；

在柵絕緣層之上形成數據線；

在數據線和柵絕緣層之上形成保護層；

形成透明導電層，其包括透明導電電極和透明襯墊，其中，所述透明襯墊與所述透明導電電極同步形成，所述透明襯墊在襯底基板上的投影位于第一柵線區域，襯底基板上需要形成柵線的區域為柵線走線區域，在濺射形成柵線時與靶材之間相對的柵線走線區域為第一柵線區域，在濺射形成柵線時與靶材相對的柵線走線區域為第二柵線區域；

其中，所述第一柵線區域內的所述柵線，柵絕緣層，數據線，保護層和透明襯墊形成第一柱狀隔墊物襯墊；所述第二柵線區域內的柵線，柵絕緣層，數據線和保護層形成第二柱狀隔墊物襯墊。

3.根據權利要求1或2所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，所述透明導電層為銦錫氧化物層。

4.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底基板；

形成在襯底基板上方的透明襯墊和透明導電電極且所述透明襯墊在襯底基板上的投影位于第一柵線區域內；其中，所述透明襯墊與所述透明導電電極同步形成，襯底基板上需要形成柵線的區域為柵線走線區域，在濺射形成柵線時與靶材之間相對的柵線走線區域為第一柵線區域，在濺射形成柵線時與靶材相對的柵線走線區域為第二柵線區域；

所述透明襯墊形成在襯底基板第一柵線區域內為第一透明襯墊；

所述陣列基板還包括形成在第一透明襯墊和襯底基板的柵線走線區域之上的柵線，形成在柵線和形成有第一透明導電層及柵線的襯底基板之上的柵絕緣層，形成在柵絕緣層之上的數據線，形成在數據線和柵絕緣層之上的保護層；

所述第一柵線區域內的第一透明襯墊，柵線，柵絕緣層，數據線和保護層形成第一柱狀隔墊物襯墊，所述第二柵線區域內的柵線，柵絕緣層，數據線和保護層形成第二柱狀隔墊物襯墊；

所述透明襯墊還形成在第一柵線區域上方的保護層之上為第二透明襯墊；所述第一柱狀隔墊物襯墊還包括所述第二透明襯墊。