[發明專利]原位復合碳的普魯士藍類化合物薄膜的制備方法及應用

在審

• 申請號: 201410487641.4
• 申請日: 2014-09-23
• 公開（公告）號: CN104269527A
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 姜銀珠;于勝蘭;李勇
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: H01M4/1393
• 分類號: H01M4/1393;H01M4/583
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 張法高

1.一種原位復合碳的普魯士藍類化合物薄膜的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1）將碳材料超聲分散在NaCl溶液中；

2）按比例稱取過渡金屬氰基配合物、還原劑與無機酸加入到上述溶液中；

3）電解3～5分鐘水，以清潔ITO導電襯底表面；

4）在相對于標準Ag/AgCl電極-2.0～2.0V的恒壓條件下，在ITO導電襯底上生成原位復合碳的普魯士藍類化合物薄膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述的過渡金屬氰基配合物、無機酸、還原劑與碳材料的摩爾分數比為1:(0.1～30):（0.1～10）:（0.1～20）。

3.根據權利要求1所述的方法,?其特征在于：所述的碳材料選自科琴黑、乙炔黑、碳黑、Super?P、石墨烯、碳納米管、中間相微球或熱解碳中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的方法,?其特征在于：所述的過渡金屬氰基配合物選自Fe、Co、Ni、Cu、Zn、V、Cr和Mn元素中的至少一種。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于：所述過渡金屬氰基配合物選自Na₄Fe(CN)₆、Na₄Co(CN)₆、Na₄Ni(CN)₆、Na₄Cu(CN)₆、Na₄Zn(CN)₆、Na₄V(CN)₆、Na₄Cr(CN)₆、Na₄Mn(CN)₆、K₄Fe(CN)₆、K₄Co(CN)₆、K₄Ni(CN)₆、K₄Cu(CN)₆、K₄Zn(CN)₆、K₄V(CN)₆、K₄Cr(CN)₆、K₄Mn(CN)₆中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的方法,?其特征在于：所述的還原劑選自亞硫酸鈉、氫化鋁鋰、硫代硫酸鈉、抗壞血酸、檸檬酸鈉、硼氫化鈉、三乙基鋁、水合肼中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的方法,?其特征在于：所述的無機酸選自鹽酸、硫酸、硝酸、碳酸、磷酸中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的方法,?其特征在于：所述的原位復合碳的普魯士藍類化合物薄膜是由方塊狀的普魯士藍類配合物與碳顆粒均勻混合而成。

9.一種原位復合碳的普魯士藍類化合物薄膜的應用，其特征在于應用于鈉離子電池正極材料。