[發明專利]用于檢測用于電流的柔性連接中斷的配置及其方法有效
| 申請號: | 201410485836.5 | 申請日: | 2010-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN104360211B | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 賽義德·賈法·雅法良-特哈妮 | 申請(專利權)人: | 朗姆研究公司 |
| 主分類號: | G01R31/02 | 分類號: | G01R31/02;H01J37/32 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務所31263 | 代理人: | 李獻忠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 檢測 電流 柔性 連接 中斷 配置 及其 方法 | ||
本申請是申請號為201080017788.7、申請日為2010年4月26日、發明名稱為“用于檢測用于電流的柔性連接中斷的配置及其方法”的申請的分案申請。
背景技術
等離子體處理方面的進展已經促成了半導體行業的增長。在基板處理期間,室的條件會影響基板處理。可能影響基板的等離子體處理的一個關鍵的參數是射頻(RF)電流的流動。
為便于討論,圖1示出了具有帶有可調間隙的處理室102的電容耦合等離子體處理系統100的簡單框圖。在可調間隙的處理室102,諸如靜電夾盤104之類下電極可配置為可調以使在上電極114和下電極104(即間隙106)之間可能創建的等離子體能根據需要進行調整。
考慮其中例如在基板加工期間從RF源108來的射頻電流流過射頻匹配110進入處理室102的情況。射頻電流可能沿路徑116與氣體反應物耦合從而創建等離子體用于處理設置在靜電夾盤104上的基板112。
本領域的技術人員都知道,流進等離子體處理系統100的射頻電流通常試圖返回其射頻源。然而,射頻電流可能不沿著預定路徑返回到它的射頻源。射頻電流的不受控制的流回其射頻源可能會導致加工狀況落在設計窗口之外。在一個例子中,射頻電流的不受控制的流可能會導致基板112在基板加工期間經歷非均勻性并可能導致更多的有缺陷器件。
由于射頻電流試圖尋求有低阻抗的路徑,可提供低阻抗路徑以指引射頻電流的流動。提供低阻抗的路徑的一種方法是采用成組的(a set of)帶118。在一個例子中,八條帶可對稱地連接到靜電夾盤104和/或處理室102的內襯。八條帶使射頻電流沿相對于基板112的徑向方向流出,從而使非均勻性最小化并為射頻電流提供更具確定性的路徑。
由于成組的帶118被采用來為射頻電流提供確定性的返回路徑,成組的帶118的完整性需要得以維持。換句話說,成組的帶118必須在良好的工作狀態下,以確保射頻電流的確定性的返回路徑是存在的。但是,可導致成組的帶118失去其完整性和產生導致晶片處理結果改變的不一致的RF返回阻抗的條件可能存在。
如前所述,升高和降低下電極104以調整在基板等離子體處理過程中創建的等離子體。由于成組的帶118被貼接到靜電夾盤104,成組的帶118還配置為沿靜電夾盤104移動。隨著時間的推移,材料的疲勞(例如,金屬疲勞)可能會導致成組的帶118斷裂(諸如帶中之一的撕裂)。一旦斷裂發生在帶中,帶的截面積發生變化,從而增加了帶的阻抗。結果,射頻電流可能不如期望的那樣流動。
在另一個例子中,在連接到下電極104的成組的帶118中的一條帶和/或處理室102的內襯之間的連接可能會撕裂。因此,射頻電流可能會被改變。
除了上述原因之外,帶的設計也可影響帶的強度、柔韌性和耐久性。例如,如果被用來創建帶的材料選擇不當,帶可能不能夠抵御腐蝕性的等離子體處理條件或存在影響功率輸送系統的效率的損耗電流路徑。由于基體材料的選擇不當造成的功率損耗可能會加熱帶并可能導致過早失效。
發明內容
本發明在一個實施方案中涉及具有可移動的下電極的等離子體處理室中的檢測電路配置(arrangement)。所述檢測電路配置包括具有第一柔性連接器端、第二柔性連接器端和至少一個縫隙的柔性連接器。所述縫隙的至少一部分沿與在所述第一柔性連接器端和所述第二柔性連接器端間劃的線平行的方向設置。所述第一柔性連接器端耦合到所述可移動的下電極,所述第二柔性連接器端耦合到所述等離子體處理室的所述組件,其中所述柔性導體配置為在所述可移動下電極和所述等離子體處理室的所述組件之間提供低阻抗的電流路徑。所述檢測電路配置也包括用于檢測通過設置在所述縫隙的一側的連接器材料的電流的裝置。用于檢測的所述裝置包括繞在設置在所述縫隙的所述一側的至少所述導體材料周圍的至少一個線圈和與線圈耦合以檢測所述電流的檢測電路。
以上的概述只涉及到此處公開的發明的多個實施方案中的一個,不是為了限制在本文的權利要求書設定的本發明的保護范圍。本發明的這些和其它特征將結合以下的附圖、在本發明的具體實施方式中更詳細地進行說明。
附圖說明
本發明是通過以附圖圖中例例示的方式而不是以限制式的方式說明的,在圖中,類似的參考數字指代類似的元素,其中:
圖1示出了具有可調間隙的處理室的電容耦合等離子體處理系統的簡單框圖。
圖2A-2C示出了在本發明的各個實施方案中的、用于用以檢測流過一條或多條帶的射頻電流的變化的集成檢測電路配置的不同配置的例子。
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