[發(fā)明專利]一種檢測高純氣體中氣溶膠的方法及裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410485633.6 | 申請日: | 2014-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN104198439A | 公開(公告)日: | 2014-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何興道;夏如孝;吳濤;葛洋;李翔 | 申請(專利權(quán))人: | 南昌航空大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/51 | 分類號: | G01N21/51 |
| 代理公司: | 南昌市平凡知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 36122 | 代理人: | 歐陽沁 |
| 地址: | 330063 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測 高純 氣體 中氣 溶膠 方法 裝置 | ||
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技術(shù)領(lǐng)域
????本發(fā)明涉及一種通過測量高純氣體的瑞利-米散射頻譜來檢測高純氣體中氣溶膠的方法及裝置。
背景技術(shù)
高純氣體在國防、化工、電子、冶金、能源等領(lǐng)域中有著廣泛的用途。在半導(dǎo)體行業(yè)中高純氣體的作用顯得更加重要,從半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體器件、集成電路的制造到半導(dǎo)體材料、器件的理論物理的研究都離不開各種高純氣體。因此,對高純氣體進(jìn)行檢測非常有必要。
光的彈性散射主要包括瑞利散射和米散射。當(dāng)微粒的大小比入射光波長小的多時產(chǎn)生瑞利散射,當(dāng)微粒的大小與入射光波長接近或者大于入射光波長時則產(chǎn)生米散射。可見光波長范圍為390~760nm,常見氣體分子直徑小于0.5nm,主要引起瑞利散射,氣溶膠直徑在0.001~100μm?之間,主要引起米散射。因此,根據(jù)高純氣體瑞利-米散射頻譜中是否存在米散射峰可以判斷氣體中是否存在氣溶膠,根據(jù)米散射峰的強度可以判斷氣溶膠的濃度。
發(fā)明內(nèi)容
為了實現(xiàn)對高純氣體中氣溶膠的檢測,我們提出了一種通過測量高純氣體的瑞利-米散射頻譜來檢測高純氣體中氣溶膠的方法。該方法根據(jù)高純氣體瑞利-米散射頻譜中是否存在米散射峰判斷氣體中是否存在氣溶膠,當(dāng)高純氣體中不存在氣溶膠時,其散射頻譜中不存在米散射峰,當(dāng)高純氣體中存在氣溶膠時,其散射頻譜中存在米散射峰;根據(jù)米散射峰的強度判斷氣溶膠的濃度。。
本發(fā)明的裝置包括激光器(1)、凸透鏡(2、10)、氣體散射池(3)、光學(xué)準(zhǔn)直及濾波系統(tǒng)(4)、鑒頻裝置(9)、光電探測器(11)、數(shù)據(jù)采集卡(12)和計算機(13)。
本發(fā)明解決技術(shù)問題的方案是:激光器(1)輸出的激光經(jīng)凸透鏡(2)聚焦到氣體散射池(3)中,與里面的氣體分子相互作用,產(chǎn)生散射信號。散射光經(jīng)準(zhǔn)直及濾波系統(tǒng)(4)準(zhǔn)直、濾波后進(jìn)入鑒頻裝置(9)中進(jìn)行鑒頻,然后通過凸透鏡(20)聚焦到光電探測器(11)中。光電探測器(11)探測到的散射信號由數(shù)據(jù)采集卡(12)進(jìn)行采集,最終在計算機(13)中進(jìn)行顯示,測得高純氣體的瑞利-米散射頻譜。
其中,激光器(1)為連續(xù)泵浦激光器或脈沖激光器,輸出激光的線寬小于100MHz;鑒頻裝置(9)為F-P掃描干涉儀或斐索干涉儀,F(xiàn)-P掃描干涉儀的自由光譜范圍小于10GHz,精細(xì)度大于20,斐索干涉儀的分辨率小于或等于100MHz;光電探測器(11)為光子計數(shù)器、光電倍增管或ICCD。
本發(fā)明的技術(shù)優(yōu)勢如下:一、通過測量高純氣體的瑞利-米散射頻譜來進(jìn)行氣溶膠的探測,根據(jù)散射頻譜中是否存在米散射峰判斷氣體中是否存在氣溶膠,根據(jù)米散射峰的強度判斷氣溶膠的濃度,具有高靈敏度的優(yōu)點。二、使用光電探測器對散射光進(jìn)行探測,并使用高速數(shù)據(jù)采集卡進(jìn)行采集,可以獲得高精度的瑞利-米散射頻譜。
附圖說明
????附圖1給出了檢測高純氣體中氣溶膠的裝置原理圖;
附圖2給出了高純氣體中有氣溶膠和無氣溶膠時的散射頻譜圖;
附圖3給出了高純氣體中氣溶膠濃度較低時的散射頻譜圖;
附圖4給出了高純氣體中氣溶膠濃度較高時的散射頻譜圖。
具體實施方式
如附圖1所示,該裝置包括激光器(1)、凸透鏡(2、10)、氣體散射池(3)、光學(xué)準(zhǔn)直及濾波系統(tǒng)(4)、鑒頻裝置(9)、光電探測器(11)、數(shù)據(jù)采集卡(12)和計算機(13)。其中光學(xué)準(zhǔn)直及濾波系統(tǒng)(4)包括凸透鏡(5、6、8)和小孔光闌(7)。
首先在無塵環(huán)境下對氣體散射池(3)進(jìn)行清洗,徹底除去其附著的灰塵,然后將待檢測的高純氣體充入到氣體散射池(3)中。激光器(1)輸出的窄帶激光經(jīng)凸透鏡(2)聚焦到氣體散射池(3)中,與里面的氣體分子相互作用,產(chǎn)生散射信號。側(cè)向90°的散射光經(jīng)凸透鏡(5、6)準(zhǔn)直、匯聚,經(jīng)小孔光闌(7)濾波、凸透鏡(8)匯聚后進(jìn)入鑒頻裝置(9)中進(jìn)行鑒頻,然后通過凸透鏡(10)聚焦到光電探測器(11)中。光電探測器(11)探測到的散射信號由數(shù)據(jù)采集卡(12)進(jìn)行采集,最終在計算機(13)中進(jìn)行顯示,測得高純氣體側(cè)向90°的瑞利-米散射頻譜。
附圖2中虛線為高純氣體中不存在氣溶膠時的散射頻譜圖,氣體主要產(chǎn)生瑞利散射,其譜線近似為高斯線型;附圖2中實線為高純氣體中存在氣溶膠濃度時的散射頻譜圖,氣體同時產(chǎn)生了瑞利散射和米散射,其譜線近似為高斯線型和洛倫茲線型的疊加,中間凸起的峰為米散射峰。附圖3為高純氣體中氣溶膠濃度較低時的散射頻譜圖,附圖4為高純氣體中氣溶膠濃度較高時的散射頻譜圖。由附圖2可以看出,當(dāng)高純氣體中不存在氣溶膠時,其散射頻譜中不存在米散射峰;當(dāng)高純氣體中存在氣溶膠時,其散射頻譜中存在米散射峰。因此,根據(jù)高純氣體瑞利-米散射頻譜中是否存在米散射峰可以判斷氣體中是否存在氣溶膠。由附圖3和附圖4可以看出,米散射峰的強度與高純氣體中氣溶膠的濃度成正相關(guān),根據(jù)米散射峰的強度可以判斷氣溶膠的濃度。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
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G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
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