[發(fā)明專利]一種像素結(jié)構(gòu)及其制備方法、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410484549.2 | 申請日: | 2014-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN104298033B | 公開(公告)日: | 2017-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳磊;彭志龍;代伍坤;劉還平 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 像素 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種像素結(jié)構(gòu),包括多列像素以及多條位于相鄰列像素間的數(shù)據(jù)線,每個像素包括像素電極以及具有柵極、有源層、源極和漏極的薄膜晶體管,所述柵極與有源層間設(shè)有柵極保護層,其特征在于,
所述柵極保護層中設(shè)有至少部分位于兩相鄰列像素之間的溝槽;
兩相鄰列像素的像素電極的相對端部,以及兩相鄰列像素之間的數(shù)據(jù)線中,一個位于所述溝槽內(nèi),另一個位于所述柵極保護層無溝槽處的表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述溝槽設(shè)置在與數(shù)據(jù)線對應(yīng)的區(qū)域,所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述溝槽內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述溝槽的最大深度小于所述柵極保護層的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述溝槽位于數(shù)據(jù)線兩側(cè),且所述兩相鄰列像素的像素電極的相對端部位于在所述溝槽內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述像素電極的靠近所述數(shù)據(jù)線的端部設(shè)置在所述溝槽的底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述溝槽的深度等于所述柵極保護層的厚度。
7.一種像素結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,包括:
制備柵極的步驟;
制備柵極保護層的步驟;
在柵極保護層上制備至少部分位于兩相鄰列像素之間的溝槽的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的像素結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述溝槽設(shè)置在與數(shù)據(jù)線對應(yīng)的區(qū)域,
所述像素結(jié)構(gòu)的制備方法還包括:
在所述溝槽內(nèi)制備數(shù)據(jù)線的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的像素結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述溝槽分別設(shè)置在數(shù)據(jù)線的兩側(cè);
所述像素結(jié)構(gòu)的制備方法還包括:
在包括所述溝槽,且以所述溝槽為邊緣的區(qū)域內(nèi)制備像素電極的步驟。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1~6任意一項所述的像素結(jié)構(gòu)。
11.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求10所述的顯示面板。
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G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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