[發明專利]液晶顯示面板及其制造方法

有效

• 申請號: 201410478295.3
• 申請日: 2014-09-18
• 公開（公告）號: CN104199203B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發明（設計）人: 鄭華
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1339
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

在基體上涂布一光阻層；

采用第一曝光能量和第一光罩對所述光阻層進行第一次曝光，以在所述基體上形成具有第一高度的間隔柱，所述第一光罩具有與所述液晶顯示面板在曲面顯示時形成的暗團區相對應的第一透光區；

采用第二曝光能量和第二光罩對經過所述第一次曝光的光阻層進行第二次曝光，以在所述基體的對應所述暗團區的區域上形成具有第二高度的間隔柱，其中所述第二光罩具有與所述暗團區相對應的第二透光區，所述第二高度大于所述第一高度；

移除未被曝光的所述光阻層。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述具有第二高度的間隔柱對應位于所述第二透光區內，且所述第二透光區的寬度大于所述第一透光區的寬度。

3.根據權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述第一光罩設置于所述第二光罩和所述光阻層之間，以進行所述第二次曝光，所述第一光罩的面積大于或等于所述液晶顯示面板的面積，所述第一透光區對應位于所述第二透光區內。

4.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第一高度大于或等于第三高度的一半，所述第二高度小于或等于所述第三高度的二分之三，所述第三高度為采用所述第一光罩和第三曝光能量對所述光阻層進行曝光時形成的間隔柱的高度，所述第三曝光能量大于所述第一曝光能量。

5.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光阻層的制造材質包括負性光阻材料。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，采用顯影技術移除所述未被曝光的光阻層。

7.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述基體對應用于形成所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。

8.一種液晶顯示面板，其特征在于，所述液晶顯示面板包括一基體以及設置于所述基體上的具有第一高度和具有第二高度的間隔柱，其中，所述第二高度大于所述第一高度，且所述具有第二高度的間隔柱對應位于所述液晶顯示面板在曲面顯示時形成的暗團區內。

9.根據權利要求8所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一高度大于或等于第三高度的一半，所述第二高度小于或等于所述第三高度的二分之三，所述第三高度為采用一光罩對所述光阻層進行曝光時形成的間隔柱的高度，所述光罩具有與所述暗團區相對應的開口區，所述曝光時采用的曝光能量大于用于形成所述具有第一高度的間隔柱時采用的曝光能量。

10.根據權利要求8所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述基體為所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。