[發明專利]液晶顯示面板及其制造方法有效
| 申請號: | 201410478295.3 | 申請日: | 2014-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN104199203B | 公開(公告)日: | 2017-02-15 |
| 發明(設計)人: | 鄭華 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280 | 代理人: | 何青瓦 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市光明新區公*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及液晶顯示技術領域,具體而言涉及一種液晶顯示面板及其制造方法,以減小或消除曲面顯示時產生的暗團區。
背景技術
當前,液晶顯示面板,例如TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display,薄膜晶體管液晶顯示)面板在曲面顯示時,極易在曲面的彎折(Bending)最嚴重處出現暗團區,且一般位于液晶顯示面板的中心分別至左右邊緣的一半附近。暗團區出現的原因在于液晶顯示面板的上下基板在此處的位錯(Shift)最嚴重,位錯距離較大,使得黑色矩陣(Black?Matrix,BM)額外遮光最多,導致液晶顯示面板此處的像素穿透率低于其他區域,嚴重影響顯示效果。
發明內容
有鑒于此,本發明實施例所要解決的技術問題是提供一種液晶顯示面板及其制造方法,以減小或消除液晶顯示面板的暗團區。
為解決上述技術問題,本發明采用的一個技術方案是:提供一種液晶顯示面板的制造方法,包括:在基體上涂布一光阻層;采用第一曝光能量和第一光罩對光阻層進行第一次曝光,以在基體上形成具有第一高度的間隔柱,第一光罩具有與液晶顯示面板在曲面顯示時形成的暗團區相對應的第一透光區;采用第二曝光能量和第二光罩對經過第一次曝光的光阻層進行第二次曝光,以在基體的對應暗團區的區域上形成具有第二高度的間隔柱,其中第二光罩具有與暗團區相對應的第二透光區,第二高度大于第一高度;移除未被曝光的光阻層。
其中,具有第二高度的間隔柱對應位于第二透光區內,且第二透光區的寬度大于第一透光區的寬度。
其中,第一光罩設置于第二光罩和光阻層之間,以進行第二次曝光,第一光罩的面積大于或等于液晶顯示面板的面積,第一透光區對應位于第二透光區內。
其中,第一高度大于或等于第三高度的一半,所述第二高度小于或等于所述第三高度的二分之三,所述第三高度為采用所述第一光罩和第三曝光能量對所述光阻層進行曝光時形成的間隔柱的高度,所述第三曝光能量大于所述第一曝光能量。
其中,光阻層的制造材質包括負性光阻材料。
其中,采用顯影技術移除未被曝光的光阻層。
其中,基體對應用于形成液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
為解決上述技術問題,本發明采用的又一個技術方案是:提供一種液晶顯示面板,包括一基體以及設置于基體上的具有第一高度和具有第二高度的間隔柱,其中,第二高度大于第一高度,且具有第二高度的間隔柱對應位于液晶顯示面板在曲面顯示時形成的暗團區內。
其中,第一高度大于或等于第三高度的一半,第二高度小于或等于第三高度的二分之三,第三高度為采用一光罩對光阻層進行曝光時形成的間隔柱的高度,光罩具有與暗團區相對應的開口區,曝光時采用的曝光能量大于用于形成具有第一高度的間隔柱時采用的曝光能量。
其中,基體為液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
通過上述技術方案,本發明實施例產生的有益效果是:本發明實施例通過在暗團區形成具有第二高度的間隔柱,在暗團區之外形成具有第一高度的間隔柱,且第二高度大于第一高度,使得暗團區的液晶層的厚度大于暗團區之外的液晶層的厚度,而液晶層的厚度的增大能夠提升暗團區的液晶效率,確保液晶顯示面板在暗團區的像素穿透率,從而相比較于現有技術能夠減小或消除暗團區。
附圖說明
圖1是本發明優選實施例的液晶顯示面板的制造方法的流程圖;
圖2是本發明優選實施例的進行第一次曝光的場景示意圖;
圖3是本發明優選實施例的進行第二次曝光的場景示意圖;
圖4是本發明優選實施例的第二光罩的制造場景示意圖;
圖5是采用圖1所示制造方法制得的彩色濾光片基板的剖視圖;
圖6是具有圖5所示彩色濾光片基板的液晶顯示面板的剖視圖。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,本發明以下所描述的實施例僅僅是本發明的一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發明保護的范圍。
圖1是本發明優選實施例的液晶顯示面板的制造方法的流程圖。如圖1所示,本實施例的液晶顯示面板的制造方法包括如下步驟:
步驟S11:在基體上涂布一光阻層。
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