[發(fā)明專利]一種金剛線切割多晶硅片用的冷卻液在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410477899.6 | 申請日: | 2014-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN104342273A | 公開(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 付紅平;章金兵;胡動力 | 申請(專利權(quán))人: | 江西賽維LDK太陽能高科技有限公司 |
| 主分類號: | C10M173/02 | 分類號: | C10M173/02 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 338000 江西省新余*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金剛 切割 多晶 硅片 冷卻液 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光伏硅片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金剛線切割多晶硅片用的冷卻液。
背景技術(shù)
目前光伏行業(yè)所用晶體硅片的切割主要為采用切割刃料進(jìn)行多線切割的方法,即通過一根高速運(yùn)動的鋼線帶動附著在上面的切割刃料對待切割的硅錠或硅塊進(jìn)行摩擦,從而達(dá)到切割效果。在整個過程中,切割鋼線通過導(dǎo)線輪的引導(dǎo),在主線輥(導(dǎo)輪)上形成一張切割鋼線網(wǎng),而待加工的硅錠或硅塊通過切割工作臺從上至下的運(yùn)動實現(xiàn)硅錠或硅塊的進(jìn)給。在切割過程中,高速運(yùn)動的鋼線并不進(jìn)行切割,其主要是利用附著在切割鋼線上的切割刃料以持續(xù)平穩(wěn)的切割力場作用于待切割的硅錠或硅塊的表面,硅錠或硅塊則以一定的速度從上至下運(yùn)動對切割鋼線產(chǎn)生持續(xù)性的壓力,在壓力的作用下切割刃料被壓入硅錠或硅塊的表面,使其產(chǎn)生塑性變形后進(jìn)行犁鏵切割。由于切割鋼線在切割硅錠或硅塊的過程中,會因為兩者發(fā)生摩擦而產(chǎn)生熱量,在硅錠或硅塊和切割鋼線間的接觸面會產(chǎn)生高溫,切割液(切割刃料均勻分散在切割液中)又對硅錠或硅塊及切割鋼線起冷卻作用。但該切割技術(shù)存在切割工藝效率較低、切割加工成本高、切割后廢棄的切割液的排放污染大等問題。與之相比,金剛線切割硅片技術(shù)主要是利用表面帶有金剛石的鋼線(以下稱金剛線)通過高速運(yùn)轉(zhuǎn)不斷對硅錠或硅塊進(jìn)行磨削,并通過冷卻液進(jìn)行冷卻將切割過程中熱量帶走而實現(xiàn)的。與現(xiàn)有的采用切割刃料進(jìn)行多線切割方法相比較,其具有切割效率高、生產(chǎn)成本低的特點,且大大減少了對切割刃料的需求,從而減少了后期處理廢切割液的環(huán)保投入。
金剛線切割硅片技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于單晶硅片加工過程中,并逐步應(yīng)用于多晶硅片的加工。在現(xiàn)有的金剛線切割多晶硅片技術(shù)中,金剛線在高速運(yùn)動過程中對硅錠或硅塊進(jìn)行磨削,同時使用冷卻液進(jìn)行冷卻,并將切割過程中產(chǎn)生的硅粉鋸屑帶走,完成硅片的切割。金剛線切割產(chǎn)生的多晶硅片具有表面損傷少、僅在表面產(chǎn)生撕裂型線痕的特點,其在一定程度上提高了多晶硅片的機(jī)械強(qiáng)度,但是正因為該多晶硅片表面損傷少,采用現(xiàn)有的電池制絨工藝無法實現(xiàn)對該類型多晶硅片進(jìn)行制絨而獲得理想的絨面,從而對電池轉(zhuǎn)換效率帶來壞的影響,這也是金剛線切割多晶硅片目前無法大規(guī)模應(yīng)用的瓶頸之一。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題,本發(fā)明提供了一種金剛線切割多晶硅片用的冷卻液,所述冷卻液包括水和冷卻助劑,所述冷卻液包括硬度大于硅的磨料。在金剛線不斷對多晶硅片進(jìn)行磨削切割時,冷卻液中的磨料通過高速運(yùn)動的金剛線帶動對多晶硅片表面進(jìn)行磨削,從而在多晶硅片表面形成類似采用切割刃料進(jìn)行多線切割在硅片表面形成的表面損傷層,有利于多晶硅片的后續(xù)制絨,從而采用現(xiàn)有的電池常規(guī)制絨工藝實現(xiàn)對金剛線切割多晶硅片的制絨。
本發(fā)明提供了一種金剛線切割多晶硅片用的冷卻液,所述冷卻液包括水和冷卻助劑,所述冷卻液還包括硬度大于硅的磨料。
本發(fā)明中所采用的冷卻助劑為現(xiàn)有技術(shù)中常用來制備金剛線切割多晶硅片用的冷卻液的試劑。冷卻助劑通過添加一定量的水(去離子水或蒸餾水等),即可配制得到金剛線切割多晶硅片用的冷卻液。
現(xiàn)有技術(shù)中的冷卻液主要包括以下四種:1、聚乙二醇體系的冷卻液,即以聚乙二醇冷卻助劑為主,加入一定比例的防銹劑、乳化劑和消泡劑等其他冷卻助劑,再通過添加一定量的水(去離子水或蒸餾水等)配制而成的冷卻液。2、小分子醇、醚、酚類混合冷卻液,即以丙二醇冷卻助劑為主體,加入其他醚類和酚類等其他冷卻助劑,再通過添加一定量的水(去離子水或蒸餾水等)配制而成的冷卻液。3、通過在穩(wěn)定劑、水溶性潤滑劑、極壓劑、防銹劑、防腐劑、潤濕劑和消泡劑等冷卻助劑中添加一定量的水(去離子水或蒸餾水等)配制而成的一種環(huán)保型冷卻液。4、通過在潤滑劑、乳化劑、防銹劑、分散劑和防腐劑等冷卻助劑中添加一定量的水(去離子水或蒸餾水等)配置而成的一種冷卻液。5、水基冷卻液,即以水為主體,再通過加入分散劑、粘度調(diào)節(jié)劑、金屬螯合劑、消泡劑和殺菌劑等冷卻助劑配制而成的冷卻液。此處所用的各種冷卻助劑為本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)中常使用的試劑,可通過現(xiàn)有技術(shù)制備,也可在市場購買得到。
優(yōu)選地,所述磨料為碳化硅固體顆粒、剛玉固體顆粒和金剛石固體顆粒中的至少一種。
優(yōu)選地,所述磨料的質(zhì)量占所述水和所述冷卻助劑的總質(zhì)量的5%~50%。
優(yōu)選地,所述磨料的質(zhì)量占所述水和所述冷卻助劑的總質(zhì)量的10%~40%。
優(yōu)選地,所述磨料的質(zhì)量占所述水和所述冷卻助劑的總質(zhì)量的20%。
優(yōu)選地,所述磨料的D50為0.1um~50um。
優(yōu)選地,所述磨料的D50為2um~20um。
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