[發(fā)明專利]描繪裝置、基板處理系統(tǒng)以及描繪方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410476862.1
• 申請日: 2014-09-18
• 公開（公告）號: CN104991420B
• 公開（公告）日: 2018-09-14
• 發(fā)明（設計）人: 八坂智
• 申請（專利權）人: 斯克林集團公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 金相允;向勇

1.一種描繪裝置，對基板照射光來描繪電路圖案，其特征在于，

具有：

基板保持部，其保持設定有多個描繪區(qū)域的基板；

拍攝部，其拍攝在各描繪區(qū)域中設定的多個定位標記；

合格與否信息取得部，其基于所述拍攝部對所述各描繪區(qū)域的拍攝結果，取得所述多個定位標記在所述基板上的位置，根據(jù)所述多個定位標記的位置與設計上的基準位置之間的偏離量是否在允許范圍內，判定所述各描繪區(qū)域的位置或畸變的合格與否信息；

描繪頭，其對所述基板照射被調制后的光；

移動機構，其通過使所述基板與所述基板保持部一起相對于所述描繪頭移動，使來自所述描繪頭的光的照射區(qū)域在所述基板上掃描；

描繪控制部，其通過控制所述描繪頭以及所述移動機構，僅對被所述合格與否信息取得部判定為良好的描繪區(qū)域即正常描繪區(qū)域描繪電路圖案。

2.根據(jù)權利要求1所述的描繪裝置，其特征在于，

通過所述描繪控制部控制所述描繪頭以及所述移動機構，在被所述合格與否信息取得部確定為存在缺陷的描繪區(qū)域即缺陷描繪區(qū)域描繪表示存在缺陷的缺陷表示圖案。

3.根據(jù)權利要求2所述的描繪裝置，其特征在于，

在所述合格與否信息取得部中，還確定所述缺陷描繪區(qū)域的缺陷種類，

所述缺陷表示圖案包括表示所述缺陷種類的信息。

4.根據(jù)權利要求3所述的描繪裝置，其特征在于，

所述缺陷表示圖案配置在第一定位標記上或所述第一定位標記的周圍，所述第一定位標記是指，在所述缺陷描繪區(qū)域的多個定位標記中，由后續(xù)工序的裝置最先拍攝的定位標記。

5.根據(jù)權利要求2所述的描繪裝置，其特征在于，

所述缺陷表示圖案配置在第一定位標記上或所述第一定位標記的周圍，所述第一定位標記是指，在所述缺陷描繪區(qū)域的多個定位標記中，由后續(xù)工序的裝置最先拍攝的定位標記。

6.根據(jù)權利要求2所述的描繪裝置，其特征在于，

所述缺陷表示圖案為預先決定的區(qū)域中的涂抹圖案或斜線陰影圖案。

7.根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的描繪裝置，其特征在于，

還具有缺陷信息輸出部，所述缺陷信息輸出部輸出被所述合格與否信息取得部確定為存在缺陷的描繪區(qū)域即缺陷描繪區(qū)域在所述基板上的位置信息。

8.一種描繪裝置，對基板照射光來描繪電路圖案，其特征在于，

具有：

基板保持部，其保持設定有多個描繪區(qū)域的基板；

拍攝部，其拍攝在各描繪區(qū)域中設定的多個定位標記；

合格與否信息取得部，其基于所述拍攝部的拍攝結果，根據(jù)在前工序中檢測出存在缺陷的描繪區(qū)域即缺陷描繪區(qū)域的定位標記或其周邊圖案是否改變來取得所述各描繪區(qū)域的合格與否信息；

描繪頭，其對所述基板照射被調制后的光；

移動機構，其通過使所述基板與所述基板保持部一起相對于所述描繪頭移動，使來自所述描繪頭的光的照射區(qū)域在所述基板上掃描；

描繪控制部，其通過控制所述描繪頭以及所述移動機構，僅對被所述合格與否信息取得部確認為良好的描繪區(qū)域即正常描繪區(qū)域描繪電路圖案。

9.根據(jù)權利要求8所述的描繪裝置，其特征在于，

通過所述描繪控制部控制所述描繪頭以及所述移動機構，在被所述合格與否信息取得部確定為存在缺陷的描繪區(qū)域即缺陷描繪區(qū)域描繪表示存在缺陷的缺陷表示圖案。

10.根據(jù)權利要求9所述的描繪裝置，其特征在于，

在所述合格與否信息取得部中，還確定所述缺陷描繪區(qū)域的缺陷種類，

所述缺陷表示圖案包括表示所述缺陷種類的信息。