[發明專利]可調諧表面增強拉曼散射基底的制備方法無效
| 申請號： | 201410467546.8 | 申請日： | 2014-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN104230183A | 公開（公告）日： | 2014-12-24 |
| 發明（設計）人： | 丁亮亮;洪瑞金;楊賽;張大偉;陶春先 | 申請（專利權）人： | 上海理工大學 |
| 主分類號： | C03C19/00 | 分類號： | C03C19/00 |
| 代理公司： | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吳寶根 |
| 地址： | 200093 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 調諧 表面 增強 散射 基底 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種可調諧表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，具體包括如下步驟：
1）對K9玻璃基底進行清洗，去除基片表面的油污雜質；
2）將K9玻璃基底放入離子束刻蝕系統，設定離子束轟擊角度、刻蝕電流、加速電壓、刻蝕時間，對K9玻璃基底進行離子束刻蝕，形成表面具有粗糙度的基底；
3）將刻蝕后的基底清洗干凈后置于真空沉積系統中進行烘干；
4）把烘干刻蝕后的K9玻璃基底放入直流濺射沉積系統中，設定沉積工作功率和薄膜沉積時間，將貨幣金屬均勻的沉積在被刻蝕的基底表面，形成表面增強層基底，將沉積好的薄膜基底取出。
2.根據權利要求1所述可調諧表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，所述貨幣金屬選金、銀、銅中的任意一種或兩種以上的復合材料層。
3.根據權利要求2所述可調諧表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，
所述離子束刻蝕系統離子束轟擊角度0～80度，刻蝕電流為100～600mA，加速電壓為100～600V，刻蝕時長為1～30分鐘。
4.根據權利要求3所述可調諧表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于，
所述離子束刻蝕系統，所用氣體為四氟化碳。
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