[發明專利]一種遮光器件及其制備方法有效
| 申請號： | 201410458343.2 | 申請日： | 2014-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN104347597A | 公開（公告）日： | 2015-02-11 |
| 發明（設計）人： | 杜寰 | 申請（專利權）人： | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號： | H01L23/552 | 分類號： | H01L23/552;H01L21/02;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京華沛德權律師事務所 11302 | 代理人： | 劉杰 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 遮光 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種遮光器件，其特征在于，所述器件包括：
覆蓋在集成電路之上的像素鏡面反射電極；
覆蓋在相鄰兩個所述像素鏡面反射電極之間的溝槽上的金屬層。
2.如權利要求1所述的遮光器件，其特征在于，所述金屬層為兩層。
3.如權利要求2所述的遮光器件，其特征在于，所述金屬層包括橫向金屬層和縱向金屬層。
4.如權利要求3所述的遮光器件，其特征在于，所述橫向金屬層為橫條狀，所述縱向金屬層為豎條狀，所述像素鏡面反射電極為方形。
5.如權利要求1～4任一項所述的遮光器件，其特征在于，所述金屬層的材料為鋁。
6.一種遮光器件的制備方法，其特征在于，所述方法包括：
制備覆蓋在集成電路上的像素鏡面反射電極；
制備覆蓋在相鄰兩個所述像素鏡面反射電極之間的溝槽上的金屬層。
7.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述金屬層為兩層。
8.如權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述制備覆蓋在相鄰兩個所述像素鏡面反射電極之間的溝槽上的金屬層的步驟包括：
制備覆蓋在相鄰兩個所述像素鏡面反射電極之間的溝槽上的橫向金屬層和制備覆蓋在相鄰兩個所述像素鏡面反射電極之間的溝槽上的縱向金屬層。
9.如權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述橫向金屬層為橫條狀，所述縱向金屬層為豎條狀，所述像素鏡面反射電極為方形。
10.如權利要求6～9任一項所述的制備方法，其特征在于，所述金屬層的材料為鋁。
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