[發明專利]玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法

有效

• 申請號: 201410451708.9
• 申請日: 2014-09-05
• 公開（公告）號: CN104230175B
• 公開（公告）日: 2017-07-18
• 發明（設計）人: 陳志雄;楊順林;廖昌;劉昆
• 申請（專利權）人: 長沙市宇順顯示技術有限公司;深圳市宇順電子股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所44237
• 代理人: 張全文

技術領域

本發明屬于玻璃蝕刻領域，具體涉及一種玻璃蝕刻液及玻璃蝕刻方法。

背景技術

移動終端輕薄化要求日益提高，智能手機、平板電腦等新興消費類電子產品的顯示屏、觸控屏往往只有0.4mm～0.6mm厚度，且在降低顯示屏、觸控屏厚度及重量的同時，強度標準卻未降低。因此，在電子行業，特別是觸控顯示行業，需要經常使用玻璃蝕刻對玻璃產品進行加工，提升產品的性能。目前玻璃蝕刻主要有以下三種工藝：

1、傳統的薄膜場效應晶體管(Thin Film Transistor，TFT)及彩色濾光片(Color Filter，CF)厚度一般在0.5mm左右，加上中間填充液晶厚度一般達到1.0mm～1.4mm左右。滿足顯示器件輕薄化需求最經濟實惠的方法一般是通過化學試劑進行玻璃減薄，即使用氫氟酸對TFT及CF進行蝕刻，可以減薄40％左右。

2、單片式觸控面板(One Glass Solution，OGS)觸摸屏的強度提升一般也是通過使用氫氟酸蝕刻OGS觸摸屏邊緣缺陷和裂痕部分實現，將缺陷、裂痕消除，來提升OGS觸摸屏的強度。氫氟酸蝕刻OGS觸摸屏邊緣厚度為30μm～70μm。

3、抗眩光玻璃的生產一般也是通過使用氫氟酸蝕刻玻璃表面來實現的。使用氫氟酸將玻璃表面進行腐蝕，腐蝕后產生的微小凹凸，將原來的鏡面反射轉變為漫反射，達到防眩光的效果。

但以上三種工藝均存在以下問題：

1、玻璃與氫氟酸反應，生成氟硅酸。隨著反應的進行，蝕刻液中氟硅酸濃度增加，超過氟硅酸溶解度臨界點后，在玻璃邊緣形成氟硅酸白色結晶，會隔絕玻璃和氫氟酸，影響結晶所在區域蝕刻進行，導致不同區域玻璃蝕刻程度不一致，影響產品最終性能。如圖1所示，為現有技術的玻璃蝕刻液蝕刻玻璃的過程中反應時間與玻璃質量損失的關系圖。從圖1可以看出，玻璃質量的損失比理論值偏小，即實際反應速率比理論值偏小。隨著時間的增加，氟硅酸結晶越多，實際反應速度越低。

2、氟硅酸結晶體隨著體積的增大，會影響外觀，且常規清洗無法清洗掉，包括常見的酸性、堿性、中性清洗液，酒精擦拭等均無法清潔氟硅酸。

3、氫氟酸是一種高危害的強酸，又稱“腐骨酸”，對皮膚有強烈刺激性和腐蝕性，估計人攝入1.5g氫氟酸可致立即死亡。且使用后的氫氟酸難以處理，容易污染環境。

發明內容

本發明實施例的目的在于克服現有技術的上述不足，提供一種在不使用氫氟酸的前提下，提高玻璃蝕刻的效率、品質，同時提高外觀良率的玻璃蝕刻液。

本發明實施例的另一目的在于提供一種采用上述的玻璃蝕刻液的安全性高、生產可控性高的玻璃蝕刻方法。

為了實現上述發明目的，本發明實施例的技術方案如下：

一種玻璃蝕刻液，所述玻璃蝕刻液由按以下重量百分含量計的成分組成：全氟烷烴20～40％、無機酸10～15％和純水45～70％，所述無機酸為鹽酸、稀硫酸、磷酸或者硝酸。

以及，一種玻璃蝕刻方法，包括：按以下重量百分含量計的成分：全氟烷烴20～40％、無機酸10～15％和純水45～70％制備玻璃蝕刻液，所述無機酸為鹽酸、稀硫酸、磷酸或者硝酸；采用所述玻璃蝕刻液蝕刻玻璃。

上述實施例的玻璃蝕刻液的配比合理，玻璃蝕刻液配方中不包含氫氟酸，使得玻璃蝕刻液的安全性高，同時避免氟硅酸結晶造成的玻璃的外觀不良。

上述實施例的玻璃蝕刻方法采用的玻璃蝕刻液配比合理，采用該玻璃蝕刻液的蝕刻方法的安全性高，生產可控性高，制備的產品的品質優良，均勻性好，良率高。

附圖說明

下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明，附圖中：

圖1為現有技術的玻璃蝕刻液蝕刻玻璃的過程中反應時間與玻璃質量損失的關系圖；

圖2為本發明實施例的玻璃蝕刻方法的流程圖。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

本發明實例提供了一種玻璃蝕刻液。該玻璃蝕刻液由按以下重量百分含量計的成分組成：全氟烷烴20～40％、無機酸10～15％和純水45～70％。具體的，無機酸為鹽酸、稀硫酸、磷酸或者硝酸。無機酸也可以是其他可以溶解H₂SiF₆的酸，但不能是氫氟酸。