[發明專利]一種掩模板及使用掩模板制作光阻間隔物的方法在審
| 申請號： | 201410449673.5 | 申請日： | 2014-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN104298011A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發明（設計）人： | 呂啟標 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1339 | 分類號： | G02F1/1339;G03F7/00;G03F1/54 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 模板 使用 制作 間隔 方法 | ||
1.一種使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其中所述掩模板包括第一透光區域，其特征在于，所述第一透光區域包括遮光部分；
所述制作光阻間隔物的方法包括：
在液晶顯示器的基板的表面涂布負向光阻材料；
使用所述掩模板對所述負向光阻材料進行曝光；以及
對所述曝光后的負向光阻材料進行顯影，以形成具預設高度的次光阻間隔物；
其中根據所述次光阻間隔物的預設高度，確定所述第一透光區域的所述遮光部分的面積。
2.根據權利要求1所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述次光阻間隔物的高度與所述遮光部分的面積成反比。
3.根據權利要求1所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述遮光部分包括面積相等、形狀相同的第一遮光部分以及第二遮光部分。
4.根據權利要求3所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述第一遮光部分的面積以及所述第二遮光部分的面積的范圍均為1平方微米至100平方微米。
5.根據權利要求3所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述第一遮光部分和所述第二遮光部分的面積之和為所述第一透光區域面積的30％至40％。
6.根據權利要求3所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述第一遮光部分與所述第二遮光部分之間的間距為1微米至10微米。
7.根據權利要求1所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述掩模板包括至少兩個所述第一透光區域；
其中所述至少兩個所述第一透光區域的所述遮光部分的面積不同，以形成至少兩種高度的所述次光阻間隔物。
8.根據權利要求1所述的使用掩模板制作光阻間隔物的方法，其特征在于，所述掩模板還包括第二透光區域，所述第二透光區域用于形成主光阻間隔物。
9.一種掩模板，其特征在于，所述掩模板包括第一透光區域，所述第一透光區域用于形成次光阻間隔物，所述第一透光區域包括遮光部分，所述遮光部分的面積根據所述次光阻間隔物的預設高度設置的。
10.根據權利要求9所述的掩模板，其特征在于，所述遮光部分包括面積相等、形狀相同的第一遮光部分以及第二遮光部分。
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