[發明專利]涂布裝置及涂布方法有效
| 申請號: | 201410446969.1 | 申請日: | 2014-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN104415884B | 公開(公告)日: | 2017-06-23 |
| 發明(設計)人: | 高村幸宏;相良秀一;鈴木聡 | 申請(專利權)人: | 斯克林集團公司 |
| 主分類號: | B05C5/00 | 分類號: | B05C5/00;B05C11/10 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 日本京都市上京區堀川*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種對基板涂布處理液的技術。
背景技術
近年來,正進行利用有機電致發光(Electroluminescence,EL)材料的有機EL顯示裝置的開發。例如,在使用了高分子有機EL材料的有源矩陣(active matrix)驅動方式的有機EL顯示裝置的制造中,對玻璃基板(以下簡稱作“基板”),依序形成薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)電路、形成成為陽極的氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)電極、形成間隔壁、涂布包含空穴(hole)傳輸材料的流動性材料(以下稱作“空穴傳輸液”)、利用加熱處理形成空穴傳輸層、涂布包含有機EL材料的流動性材料(以下稱作“有機EL液”)、利用加熱處理形成有機EL層、形成陰極、及通過形成絕緣膜而進行密封。
在有機EL顯示裝置的制造中,作為將空穴傳輸液或有機EL液涂布于基板的裝置,專利文獻1所示的裝置已為人所知。此種涂布裝置中,將連續地噴出流動性材料的多個噴嘴,相對于基板而在主掃描方向及副掃描方向上相對移動,由此將流動性材料條紋狀地涂布于基板上。
且說,在有機EL顯示裝置用的基板的表面,在應涂布空穴傳輸液或有機EL液等流動性材料的涂布區域(即,發光區域)的周圍,設置著供驅動器電路裝入的區域或為了利用絕緣膜進行密封而所需的區域。在有機EL顯示裝置的制造中,在空穴傳輸層或有機EL層的形成工序中,存在如下可能:流動性材料附著于所述涂布區域的周圍的區域(以下稱作“非涂布區域”),而如果以附著流動性材料的狀態進行后續工序,則存在如下可能:產生電極的特性劣化或密封不良等。因此,至今為止提出了一些防止流動性材料附著于基板上的非涂布區域的技術。
例如,專利文獻2中,公開了一種對基板的與非涂布區域對應的部分貼附掩模帶(masking tape)的技術。當對貼附了掩模帶的基板涂布流動性材料后,通過將掩模帶剝離而在基板形成非涂布區域。
而且,專利文獻3中公開了如下技術,即,當對基板的整個面涂布了流動性材料后,利用等離子體處理,而從與非涂布區域對應的部分直接去除流動性材料。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2004-111073號公報
[專利文獻2]日本專利特開2008-277212號公報
[專利文獻3]日本專利特開2011-210531號公報
發明內容
[發明所要解決的問題]
然而,在為專利文獻2所記載的技術的情況下,需要在涂布裝置外進行對基板貼附掩模帶的工序、及從基板剝離掩模帶的工序,從而效率欠佳。而且,在將掩模帶剝離時,有掩模帶的黏著劑附著于基板上而成為殘渣的可能。而且,在為專利文獻3所記載的技術的情況下,存在如下可能:等離子體處理對作為基底的基板造成不良影響。因此,現有技術中尚存在改善的余地。
本發明鑒于所述課題而完成,其目的在于提供一種對基板有效率且有效地形成流動性材料的非涂布區域的技術。
[解決問題的手段]
為了解決所述課題,第一形態為一種涂布裝置,在基板上形成未涂布流動性材料的非涂布區域,且包括:保持部,保持基板;噴出部,朝向由所述保持部保持的所述基板的主面噴出流動性材料;移動機構,使所述噴出部相對于由所述保持部保持的所述基板相對地移動;掩模機構,以與由所述保持部保持的所述基板的主面中的和所述非涂布區域對應的部分相向的方式來配備掩模部,并且使該掩模部配合所述基板的移動而移動。
而且,第二形態在第一形態的涂布裝置中,所述移動機構使所述噴出部在與所述基板的主面平行的主掃描方向及與所述主掃描方向交叉的副掃描方向上相對地移動。
而且,第三形態在第一形態或者第二形態的涂布裝置中,所述掩模機構包括:帶狀的掩模帶;送出部,將所述掩模帶送出;卷繞部,將從所述送出部送出的所述掩模帶卷繞;抵壓部,將從所述送出部送出的所述掩模帶抵壓到所述基板,且所述送出部配合由所述移動機構進行的所述基板的移動而將所述掩模帶送出。
而且,第四形態在第三形態的涂布裝置中,所述送出部以所述掩模帶的移動方向及移動量與所述基板的移動方向及移動量一致的方式,而將所述掩模帶送出。
而且,第五形態在第三形態或第四形態的涂布裝置中,所述抵壓部一邊使所述掩模帶的寬度方向端部從所述基板浮起,一邊將所述掩模帶抵壓到所述基板。
而且,第六形態在第五形態的涂布裝置中,所述抵壓部在與所述掩模帶的寬度方向兩端部中的至少一個端部對應的部分,具有直徑減小的輥。
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