[發明專利]涂布裝置及涂布方法

有效

• 申請號: 201410446969.1
• 申請日: 2014-09-03
• 公開（公告）號: CN104415884B
• 公開（公告）日: 2017-06-23
• 發明（設計）人: 高村幸宏;相良秀一;鈴木聡
• 申請（專利權）人: 斯克林集團公司
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/10
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205
• 代理人: 臧建明

1.一種涂布裝置，其特征在于，在基板上形成未涂布流動性材料的非涂布區域，所述涂布裝置包括：

保持部，保持基板；

噴出部，朝向由所述保持部保持的所述基板的主面噴出所述流動性材料；

移動機構，使所述噴出部相對于由所述保持部保持的所述基板相對地移動；以及

掩模機構，以與由所述保持部保持的所述基板的主面中的和所述非涂布區域對應的部分相向的方式來配備掩模部，并且使所述掩模部配合所述基板在與平行所述主面的主掃描方向交叉的副掃描方向上的移動而移動；

所述移動機構包括：

噴出部移動機構，使所述噴出部在與由所述保持部保持的所述基板的主面平行的所述主掃描方向移動；以及

保持部移動機構，使保持有所述基板的所述保持部在與所述主掃描方向交叉的所述副掃描方向上移動；并且

所述掩模機構包括：

帶狀的掩模帶；

送出部，將所述掩模帶送出；

卷繞部，將從所述送出部送出的所述掩模帶卷繞；以及

抵壓部，將從所述送出部送出的所述掩模帶抵壓到所述基板；并且

所述送出部配合由所述移動機構的所述保持部移動機構進行的所述基板在所述副掃描方向上的移動，而在所述副掃描方向上將所述掩模帶送出。

2.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述送出部以所述掩模帶的移動方向及移動量與所述基板的移動方向及移動量一致的方式，而將所述掩模帶送出。

3.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述抵壓部一邊使所述掩模帶的寬度方向端部從所述基板浮起，一邊將所述掩模帶抵壓到所述基板。

4.根據權利要求3所述的涂布裝置，其特征在于，所述抵壓部在與所述掩模帶的寬度方向兩端部中的至少一個端部對應的部分，具有直徑減小的輥。

5.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述掩模機構以從所述基板的端部向外側伸出的方式配備所述掩模部。

6.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述掩模機構具有多個所述掩模部。

7.根據權利要求6所述的涂布裝置，其特征在于，所述掩模機構還包括調整機構，所述調整機構對多個所述掩模部的間隔進行調整。

8.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，還包括清洗機構，所述清洗機構對所述掩模部進行清洗。

9.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述流動性材料為有機電致發光液或者空穴傳輸液。

10.根據權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，還包括磁場產生部，所述磁場產生部通過產生磁場而使所述掩模部吸附于所述基板。

11.根據權利要求10所述的涂布裝置，其特征在于：

所述移動機構使所述噴出部在與所述基板的主面平行的所述主掃描方向及與所述主掃描方向交叉的所述副掃描方向上相對地移動，并且所述移動機構通過使所述保持部移動，而使所述基板沿一個方向移動，

所述送出部以所述掩模帶的移動方向及移動量與所述基板的移動方向及移動量一致的方式，將所述掩模帶送出，

所述保持部包括平臺，所述平臺具有保持所述基板的平面，

所述磁場產生部包括磁性體，所述磁性體在所述平臺上，沿著所述副掃描方向配置著多個。

12.根據權利要求10所述的涂布裝置，其特征在于，還包括攝影部，所述攝影部在所述基板的主面中的除用作元件的有效區域外的區域，對從所述噴出部噴出的所述流動性材料的涂布圖案進行攝影。

13.根據權利要求12所述的涂布裝置，其特征在于，所述攝影部對噴出到所述掩模部上的所述流動性材料的涂布圖案進行攝影。

14.根據權利要求13所述的涂布裝置，其特征在于，在所述掩模部的表面，形成著保持所述涂布圖案的被覆部。