[發明專利]堆棧式傳感器芯片結構及其制備方法在審
| 申請號: | 201410441417.1 | 申請日: | 2014-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN104332480A | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發明(設計)人: | 林峰;肖海波;劉遠良 | 申請(專利權)人: | 豪威科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 吳俊 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 堆棧 傳感器 芯片 結構 及其 制備 方法 | ||
1.一種堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,包括:邏輯器件晶圓、覆蓋于所述邏輯器件晶圓上表面的轉換器件晶圓以及覆蓋于所述轉換器件晶圓上表面的像素器件晶圓;
所述像素器件晶圓中設置有若干傳輸柵,所述轉換器件晶圓中設置有行選擇器件、源極跟隨器件以及復位器件;
其中,所述源極跟隨器件的柵極和所述復位器件的漏極均與所述若干傳輸柵共享的浮置擴散區連接,以形成一傳感器。
2.如權利要求1所述的堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,
所述像素器件晶圓與轉換器件晶圓通過堆棧式工藝粘合在一起;
所述轉換器件晶圓與邏輯器件晶圓也通過堆棧式工藝粘合在一起。
3.如權利要求2所述的堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,
采用混合粘合工藝將所述像素器件晶圓與轉換器件晶圓粘合在一起。
4.如權利要求1所述的堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,所述轉換器件晶圓的厚度為1-4μm。
5.如權利要求1所述的堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,所述結構適用于2T、4T和8T的圖像傳感器。
6.如權利要求1所述的堆棧式傳感器芯片結構,其特征在于,所述結構包括像素區和邏輯區;
所述像素區包括所述像素器件晶圓與所述轉換器件晶圓;
所述邏輯區包括所述邏輯器件晶圓;
其中,所述像素器件晶圓、所述轉換器件晶圓與所述邏輯器件晶圓中均具有金屬布線,通過若干金屬連接線將各所述金屬布線之間予以連接。
7.一種堆棧式傳感器芯片結構的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供一具有若干傳輸柵的像素器件晶圓、一具有行選擇器件、源極跟隨器件、復位器件的轉換器件晶圓和一邏輯器件晶圓;
通過堆棧式工藝將所述像素器件晶圓與所述轉換器件晶圓的上表面以及所述邏輯器件晶圓與所述轉換器件晶圓的下表面粘合在一起后,形成一堆棧式傳感器芯片結構;
其中,所述源極跟隨器件的柵極和所述復位器件的漏極均與若干所述傳輸柵共享的浮置擴散區連接,以形成一傳感器。
8.如權利要求7所述的堆棧式傳感器芯片結構的制備方法,其特征在于,采用混合粘合工藝將所述像素器件晶圓和轉換器件晶圓的上表面粘合在一起。
9.如權利要求8所述的堆棧式傳感器芯片結構的制備方法,其特征在于,所述堆棧式傳感器芯片結構包括像素區和邏輯區;
所述像素區包括所述像素器件晶圓與所述轉換器件晶圓;
所述邏輯區包括所述邏輯器件晶圓;
其中,所述像素器件晶圓、所述轉換器件晶圓與所述邏輯器件晶圓中均具有金屬布線,通過若干金屬連接線將各所述金屬布線之間予以連接。
10.如權利要求7所述的堆棧式傳感器芯片結構的制備方法,其特征在于,所述轉換器件晶圓的厚度為1-4μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





