[發(fā)明專利]一種薄膜晶體管陣列基板及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410438315.4
• 申請日: 2014-08-29
• 公開（公告）號: CN104217994B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 寧策
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,黃燦

1.一種薄膜晶體管陣列基板的制備方法，其特征在于，包括：

通過一次構(gòu)圖工藝在基板上形成包括公共電極、公共電極線、柵線和數(shù)據(jù)線的圖形，其中，所述公共電極線與所述公共電極連接，所述數(shù)據(jù)線在與所述柵線和所述公共電極線的分別交叉處斷開；

在形成有所述公共電極、公共電極線、柵線和數(shù)據(jù)線的基板上，形成絕緣層；

通過一次構(gòu)圖工藝在形成有所述絕緣層的基板上形成有源層的圖形；

在形成有所述有源層的基板上形成柵絕緣層，并通過一次構(gòu)圖工藝在所述柵絕緣層上形成對應(yīng)于所述柵線的第一過孔、對應(yīng)于所述數(shù)據(jù)線的第二過孔和對應(yīng)于所述有源層的兩第三過孔；

通過一次構(gòu)圖工藝在形成有所述柵絕緣層的基板上形成包括像素電極、柵極和源漏極的圖形，所述柵極通過所述第一過孔與所述柵線電連接，所述數(shù)據(jù)線通過所述第二過孔電連接，并通過所述第二過孔與所述源極電連接，所述源極通過一所述第三過孔與所述有源層電連接，所述漏極通過另一所述第三過孔與所述有源層電連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，通過一次構(gòu)圖工藝在基板上形成公共電極、公共電極線、柵線和數(shù)據(jù)線的圖形的步驟包括：

在所述基板上依次形成第一透明導(dǎo)電薄膜和第一金屬薄膜；

在所述第一金屬薄膜上涂覆光刻膠；

采用灰色或半色調(diào)掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板上形成光刻膠全保留區(qū)域，光刻膠半保留區(qū)域以及光刻膠去除區(qū)域，其中，所述光刻膠全保留區(qū)域?qū)?yīng)公共電極線、柵線和數(shù)據(jù)線圖形區(qū)域，所述光刻膠半保留區(qū)域?qū)?yīng)公共電極區(qū)域，所述光刻膠去除區(qū)域為除所述光刻膠全保留區(qū)域和所述光刻膠半保留區(qū)域之外的區(qū)域；

采用刻蝕工藝去除所述光刻膠去除區(qū)域的第一金屬薄膜和第一透明導(dǎo)電薄膜；

利用灰化工藝去除所述光刻膠半保留區(qū)域的光刻膠；

利用刻蝕工藝去除所述光刻膠半保留區(qū)域的第一金屬薄膜，形成公共電極的圖形；

剝離所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠，露出所述公共電極線、柵線和數(shù)據(jù)線的圖形，其中，所述公共電極線與所述公共電極連接，所述數(shù)據(jù)線在與所述柵線和所述公共電極線分別交叉的位置處斷開。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述第一金屬為銅基金屬。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述銅基金屬為銅、銅鉬合金、銅鈦合金、銅鉬鎢合金、銅鉬鈮合金或銅鉬鈦合金。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，通過一次構(gòu)圖工藝在形成有所述柵絕緣層的基板上形成像素電極、柵極和源漏極的步驟包括：

在形成有所述柵絕緣層的基板上依次形成第二透明導(dǎo)電薄膜和第二金屬薄膜；

在所述第二金屬薄膜上涂覆光刻膠；

采用灰色或半色調(diào)掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板上形成光刻膠全保留區(qū)域，光刻膠半保留區(qū)域以及光刻膠去除區(qū)域，其中，所述光刻膠全保留區(qū)域?qū)?yīng)柵極、源漏極和數(shù)據(jù)線連接部圖形區(qū)域，所述光刻膠半保留區(qū)域?qū)?yīng)像素電極圖形區(qū)域，所述光刻膠去除區(qū)域為除所述光刻膠全保留區(qū)域和所述光刻膠半保留區(qū)域之外的區(qū)域；

采用刻蝕工藝去除所述光刻膠去除區(qū)域的第二金屬薄膜和第二透明導(dǎo)電薄膜；

利用灰化工藝去除所述光刻膠半保留區(qū)域的光刻膠；

利用刻蝕工藝去除所述光刻膠半保留區(qū)域的第二金屬薄膜，形成像素電極的圖形；

剝離所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠，露出所述柵極、源漏極和數(shù)據(jù)線連接部的圖形，其中，所述柵極通過所述第一過孔與所述柵線電連接，所述數(shù)據(jù)線連接部通過所述第二過孔將斷開的數(shù)據(jù)線連接起來，所述源漏極通過所述第三過孔與所述有源層電連接。