[發明專利]去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法

在審

• 申請號: 201410425861.4
• 申請日: 2014-08-27
• 公開（公告）號: CN104307781A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 國天增;賀賢漢
• 申請（專利權）人: 富樂德科技發展（天津）有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12
• 代理公司: 上海順華專利代理有限責任公司 31203
• 代理人: 沈履君

1.去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1，使用堿性溶液對零件進行浸泡；

S2，使用酸性溶液對零件進行清洗；

S3，對零件進行清洗；

S4，對零件進行干燥。

2.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S1之前還包括一預處理步驟S0；其中

所述步驟S0包括：

S0.1，使用超純水對零件進行沖洗；和/或

S0.2，使用N₂或干凈的壓縮空氣吹干零件。

3.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S1包括還一步驟S1.1，所述步驟S1.1為對零件使用超純水進行漂洗處理。

4.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S2包括還一步驟S2.1，所述步驟S2.1為對零件使用超純水進行溢流處理。

5.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述堿性溶液的配比為KOH:H₂O＝1千克KOH:5升H₂O。

6.根據權利要求5所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，KOH可用NaOH、NaHCO₃或Na₂CO₃代替。

7.根據權利要求5所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述堿性溶液的溫度為70℃～80℃。

8.根據權利要求1或5或7所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S1中，零件在所述堿性溶液中浸泡的時間為1小時～2小時。

9.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述酸性溶液的配比為體積比HCL:HF:H₂O＝1:1:2。

10.根據權利要求1或9所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S2中，零件在所述酸性溶液中清洗的時間為3分鐘～5分鐘。

11.根據權利要求1所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3包括：

S3.1，對零件進行粗洗；

S3.2，對零件進行精洗。

12.根據權利要求11所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3.1中的粗洗清潔液為超純水。

13.根據權利要求12所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述粗洗清潔液的溫度為50℃。

14.根據權利要求11所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3.1中，利用超聲波對零件進行清洗。

15.根據權利要求14所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述超聲波的頻率為25KHz。

16.根據權利要求15所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述超聲波的能量密度為25瓦/加侖～35瓦/加侖。

17.根據權利要求11所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3.1中，零件粗洗的時間大于等于30分鐘。

18.根據權利要求11所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3.2中的精洗清潔液為18兆歐的去離子水。

19.根據權利要求18所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述精洗清潔液的溫度為50℃。

20.根據權利要求11所述的去除附著于陶瓷零件表面氧化物薄膜的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3.2中，利用超聲波對零件進行清洗。