[發明專利]曝光裝置

在審

• 申請號: 201410425472.1
• 申請日: 2014-08-26
• 公開（公告）號: CN104423180A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 河東和彥;羽生慎一
• 申請（專利權）人: 倍科有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;閻文君

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置，使基板的感光面和掩模板的圖案面相面對，通過使基板的感光面曝光而在基板上轉印圖案。

背景技術

以往已知有各種曝光裝置，使基板的感光面和掩模板的圖案面相面對，通過使基板的感光面曝光而在基板上轉印圖案。在這種曝光裝置中，不只是對基板的感光面進行除塵，對掩模板的與基板的相對面(稱為掩模板的圖案面)進行除塵也很重要。這是因為在掩模板的圖案面上存在塵埃時，則曝光時塵埃會與形成在掩模上的圖案一起被轉印，發生該基板成為次品的不良現象。

然而，在這種曝光裝置中，不僅僅只是將一張一張呈短尺寸片狀的基板作為曝光對象的曝光裝置，還有將長尺寸片狀基板作為曝光對象的曝光裝置。

將長尺寸片狀基板作為曝光對象的曝光裝置是在間歇地各按規定量搬運架設在輸送部和卷繞部之間的長尺寸片狀基板的過程中，使基板的感光面和掩模板的圖案面相面對，并使基板的感光面曝光的裝置，作為所謂的卷對卷(Roll?to?Roll)方式的曝光裝置而在以往為人所知(例如參照專利文獻1)。

圖8是為了說明專利文獻1所記載的曝光裝置900而示出的圖。如圖8所示，專利文獻1所公開的曝光裝置900是在輸送長尺寸片狀基板910的輸送部920和卷繞完成曝光的基板的卷繞部930之間配置曝光部940，在搬運基板910的過程中，使基板910的感光面和掩模板950的圖案面相面對，并使基板910的感光面曝光的“卷對卷方式的曝光裝置”。

另外，由于專利文獻1所記載的曝光裝置900是如下裝置，即基板910的兩面為感光面，能夠使基板910的兩面同時曝光，因此掩模板950被上下分別設置為夾著基板910。另外，在以下的說明中，將上側的掩模板950作為上側掩模板951，將下側的掩模板950作為下側掩模板952而進行說明。

在這種卷對卷方式的曝光裝置中，對掩模板950(上側掩模板951及下側掩模板952)的各圖案面進行除塵也很重要。在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，上側掩模板951及下側掩模板952中的各圖案面的除塵如下進行。

在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，進行上側掩模板951的除塵時，利用可使基板910沿z軸升降的高度調節輥960，使基板910沿z軸上升，由此使基板910離開下側掩模板952，并且通過使上側掩模板951沿z軸上升，而使上側掩模板951離開基板910，在該狀態下，對上側掩模板951的圖案面進行除塵。

另一方面，進行下側掩模板952的除塵時，使上側掩模板951沿z軸上升而與下側掩模板952之間形成較寬的間隔，并且利用高度調節輥960使基板910離開下側掩模板952，在該狀態下，對下側掩模板952進行除塵。

專利文獻1：日本國特開2001-125274號公報

如上所述，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中對掩模板950(上側掩模板951及下側掩模板952)的各圖案面進行除塵時，為了便于上側掩模板的圖案面及下側掩模板的圖案面的除塵，進行使基板及上側掩模板移動的操作，使各圖案面和基板隔開間隔，在此基礎上，進行上側掩模板的圖案面及下側掩模板的圖案面的除塵。另外，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，由于并未特別設置用于對掩模板的圖案面進行除塵的除塵裝置，因此可以認為掩模板的圖案面的除塵是作業人員通過人工作業而進行的。因此，進行掩模板的圖案面的除塵時花費很多的精力和時間。

另外，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，進行掩模板的圖案面的除塵時，需要使曝光動作停止。因此，在原本應該能夠實現高速有效的曝光的卷對卷方式的曝光裝置中，為了掩模的除塵而較大地損害高速化及高效化。尤其是在要進行更高品質的曝光時，由于要求頻繁進行掩模的除塵，因此每次進行掩模的除塵，都需要每次進行如上所述的工序，變為更大地損害高速化及高效化。

另外，在本說明書中，“曝光動作”是指“在間歇地各按規定量搬運長尺寸片狀基板的過程中，使基板的感光面和掩模板的圖案面相面對，并使基板的感光面曝光的動作”。

發明內容

本發明是鑒于上述情況而進行的，其目的在于提供一種曝光裝置，在卷對卷方式的曝光裝置中，可以自動進行掩模板的圖案面的除塵，而且，不對該卷對卷方式的曝光裝置進行的曝光動作造成影響便能進行掩模板的圖案面的除塵。