[發明專利]曝光裝置

在審

• 申請號: 201410425472.1
• 申請日: 2014-08-26
• 公開（公告）號: CN104423180A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 河東和彥;羽生慎一
• 申請（專利權）人: 倍科有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;閻文君

1.一種曝光裝置，是在間歇地各按規定量搬運架設在輸送部和卷繞部之間的長尺寸片狀基板的過程中，使所述基板的感光面和掩模板的圖案面相面對，并使所述基板的感光面曝光的曝光裝置，其特征在于，

使所述基板沿由x軸及y軸形成的xy平面中的x軸朝向所述卷繞部的一側為前方側，使與該前方側相反一側為后方側時，則具有：

曝光載物臺，配置在夾著所述基板而與所述掩模板相對的位置上，可沿與xy平面正交的z軸與所述基板一起升降；

掩模除塵部，可實現沿x軸的往復移動且可與所述曝光載物臺一起沿z軸升降，并且被設置在所述曝光載物臺上，以從所述基板的感光面沿z軸離開的狀態位于所述掩模板側，至少將從所述掩模板的所述后方側端部沿x軸進一步向后方側離開規定間隔的第1位置和從所述掩模板的所述前方側端部沿x軸進一步向前方側離開規定間隔的第2位置之間的范圍作為所述往復移動時的可動范圍，一邊沿該可動范圍內前進一邊進行對所述掩模板的圖案面除塵的動作；

掩模除塵部驅動機構部，用于使所述掩模除塵部進行所述往復移動；

掩模除塵部控制裝置，通過控制所述掩模除塵部驅動機構部而控制所述掩模除塵部的所述往復移動；

曝光載物臺驅動機構部，用于可使所述曝光載物臺沿z軸升降；

及曝光載物臺控制裝置，通過控制所述曝光載物臺驅動機構部而控制所述曝光載物臺的升降，

所述掩模除塵部呈至少表面具有粘附力的輥狀，

所述掩模除塵部對所述掩模板的圖案面進行除塵的動作是在與所述掩模板的圖案面接觸的狀態下進行旋轉前進的動作，

從所述掩模除塵部相對于所述掩模板沿x軸及z軸分別離開的位置使所述掩模除塵部與所述掩模板的圖案面接觸時，

所述掩模除塵部控制裝置控制所述掩模除塵部驅動機構部，

使所述掩模除塵部到達與所述掩模板的圖案面中的沿x軸的端部附近相對的位置，

所述曝光載物臺控制裝置控制所述曝光載物臺驅動機構部，

當所述掩模除塵部到達與所述掩模板的圖案面中的沿x軸的端部附近相對的位置時，使所述掩模除塵部與所述掩模板的圖案面中的沿x軸的端部附近接觸，

使所述基板的感光面曝光時，

所述掩模除塵部控制裝置控制所述掩模除塵部驅動機構部，使所述掩模除塵部處于到達所述第1位置或所述第2位置的狀態，

所述曝光載物臺控制裝置控制所述曝光載物臺驅動機構部，在所述掩模除塵部到達所述第1位置或所述第2位置的狀態下，使所述曝光載物臺沿z軸移動而使所述基板的感光面和所述掩模板的圖案面處于接觸或接近的狀態。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述掩模除塵部在間歇地各按規定量搬運所述基板的期間內進行對所述掩模板的圖案面除塵的動作。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，

將所述掩模除塵部沿所述可動范圍內向所述前方側前進的動作作為前方前進動作，將所述掩模除塵部沿所述可動范圍內向所述后方側前進的動作作為后方前進動作時，

所述掩模除塵部分別在所述前方前進動作及所述后方前進動作中進行對所述掩模板的圖案面除塵的動作，

分別在所述前方前進動作及所述后方前進動作中對所述掩模板的圖案面進行除塵的動作在間歇地各按規定量搬運所述基板的期間內交互進行。

4.根據權利要求1至3中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，

所述掩模除塵部設置在所述曝光載物臺上，當處于與所述掩模板的圖案面接觸的狀態時，通過彈簧的彈性力而作用推壓所述圖案面的力。

5.根據權利要求1至3中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，

所述掩模除塵部具有沿所述掩模板的圖案面中的y軸方向的吸引口，是通過吸引而對所述掩模板的圖案面進行除塵的吸引式掩模除塵部，

所述吸引式掩模除塵部對所述掩模板的圖案面進行除塵的動作是在與所述掩模板的圖案面之間具有規定空隙的狀態下發揮吸引力并沿所述掩模板的圖案面且沿x軸方向前進的動作。

6.根據權利要求1至5中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，

具有基板除塵部，對所述基板的至少所述感光面進行除塵。

7.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，

所述基板除塵部呈至少表面具有粘附力的輥狀，其以與所述基板的至少感光面接觸的狀態而被設置，伴隨間歇地各按規定量搬運所述基板時的所述基板的搬運而旋轉。