[發明專利]一種新型加工水晶拋光的燒結拋光盤及其制備工藝在審
| 申請號: | 201410420038.4 | 申請日: | 2014-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN104175236A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 王根生 | 申請(專利權)人: | 王根生 |
| 主分類號: | B24D3/04 | 分類號: | B24D3/04;B24D18/00 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 322200 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 加工 水晶 拋光 燒結 及其 制備 工藝 | ||
1.一種新型加工水晶拋光的燒結拋光盤的制備工藝,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1,選用質量百分比占總質量為63-74.5%的拋光粉,11-15%的黃粘土,1.5-3%的鋸木粉,11-15%的奈,2-4%的木炭粉,其中以上成分質量總和為100%;
步驟2,將黃粘土加工成超細粉體,用適量水拌成泥漿,再用泥漿作膠水粘合劑與拋光粉、鋸木粉、木炭粉、萘攪拌均勻,成型所需要大小的拋光盤;
步驟3,在無日照的陰涼處自然晾干;
步驟4,干后再用1000-1200度左右高溫燒結3-5小時,鋸木粉、木炭粉、萘在燒結時自然燒掉,致使內部有均勻小孔,得到用于加工水晶拋光的拋光盤。
2.根據權利要求1所述的新型加工水晶拋光盤的燒結拋光盤的制備工藝,其特征在于,步驟2中的黃粘土加工成的超細粉體的顆粒小于拋光粉的顆粒。
3.根據權利要求1或2所述的新型加工水晶拋光盤的燒結拋光盤的制備工藝,其特征在于,所述黃粘土的顆粒大小為1-1.5微米,拋光粉的顆粒大小為1-3微米。
4.根據權利要求1或2所述的新型加工水晶拋光盤的燒結拋光盤的制備工藝,其特征在于,步驟1中,拋光粉的質量百分比為69%,黃粘土的質量百分比為13%,鋸木粉的質量百分比為2%,奈的質量百分比為13%,木炭粉的質量百分比為3%。
5.一種新型加工水晶拋光的燒結拋光盤,其特征在于,為選用質量百分比占總質量為63-74.5%的拋光粉,11-15%的黃粘土,1.5-3%的鋸木粉,11-15%的奈,2-4%的木炭粉,其中以上成分質量總和為100%,采用1000-1200度左右高溫燒結得到。
6.根據權利要求5所述的新型加工水晶拋光的燒結拋光盤,其特征在于,黃粘土的顆粒小于拋光粉的顆粒。
7.根據權利要求5或6所述的新型加工水晶拋光的燒結拋光盤,其特征在于,所述黃粘土的顆粒大小為1-1.5微米,拋光粉的顆粒大小為1-3微米。
8.根據權利要求5或6所述的新型加工水晶拋光盤的燒結拋光盤,其特征在于,拋光粉的質量百分比為69%,黃粘土的質量百分比為13%,鋸木粉的質量百分比為2%,奈的質量百分比為13%,木炭粉的質量百分比為3%。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于王根生;,未經王根生;許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410420038.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種自動調節的劃線裝置
- 下一篇:寶石刻面機





