[發明專利]用于修正掩模的傾角的設備以及基質處理設備

有效

• 申請號: 201410412432.3
• 申請日: 2014-08-20
• 公開（公告）號: CN104423146B
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發明（設計）人: 梁相熙;白圣煥;金戊一;金鎬巖
• 申請（專利權）人: AP系統股份有限公司
• 主分類號: G03F1/72
• 分類號: G03F1/72
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

本發明提供一種用于修正掩模的傾角的設備。所述設備包含：掩模支撐主體，其經配置以支撐其上形成有圖案的掩模；掩模支撐主體移動單元，其經配置以改變掩模支撐主體的XY平面的傾角；照相機單元，其為穿過設置在基質支撐件上的基質的激光束拍照，以產生激光束穿透圖像；以及控制單元，其經配置以控制掩模支撐主體移動單元，由此改變掩模的XY平面的傾角，以使得當激光束穿透圖像偏離參考焦點圖像時，激光束穿透圖像與參考焦點圖像匹配。

技術領域

本發明涉及一種用于修正掩模的傾角的設備，所述掩模用于通過使用激光束使基質圖案化，所述用于修正掩模的傾角的設備應用于基質處理設備。

背景技術

根據有機電致發光裝置的材料和工藝，有機電致發光顯示裝置可以分為使用濕法工藝的高分子裝置和使用沉積工藝的低分子裝置。在使高分子發光層或低分子發光層圖案化的方法之中的噴墨印刷方法的情況下，除了發光層之外的有機層在材料上受到限制，并且不便于在基質上形成用于噴墨印刷的結構。而且，當發光層通過沉積工藝得到圖案化時，由于金屬掩模的使用而難以制造大型裝置。

作為圖案化方法的替代技術，使用激光誘導熱成像(laser induced thermalimaging,LITI)方法。LITI方法被定義為這樣一種方法，其中從光源產生的激光束被轉換成熱能，并且隨后用于形成圖案的材料由于熱能而傳遞到基質上以在基質上形成圖案。為此，施體薄膜具有這樣一種結構，其中作為受體的基質完全由施體薄膜覆蓋，并且施體薄膜和基質被固定到載物臺上。施體薄膜和基質通過層壓工藝進一步彼此附接，并且隨后通過使用激光束傳遞到基質上以使基質完全圖案化。也就是說，當激光被照射到發光層先前形成于其上的施體薄膜或施體基質上時，發光層與施體薄膜或施體基質分離并且隨后被傳遞到受體基質上以形成像素。

圖1是使用激光束的基質處理設備的視圖。

使用激光束的基質處理設備10包含激光源300，所述激光源300用于產生激光束；投影透鏡400，所述投影透鏡400設置在激光源300的下方；以及掩模M，所述掩模M設置在激光源300與投影透鏡400之間并且通過使用激光束L傳遞圖案。然而，當掩模M由新的掩模替換時，激光束在基質上的焦點和位置方面有所變化。當替換掩模時，掩模可以在高度、傾角、位置等等方面有所變化，并且因此激光束也可以在基質上的焦點和位置方面有所變化。由于激光束的焦點和位置因掩模的替換而變化，因此基質處理過程可能無法順利地執行基質處理過程。

【現有技術文獻】

【專利文獻】

第2012-0042144號韓國專利公開案

發明內容

本發明提供一種用于修正傾角的設備，以在即使替換掩模的情況下也能防止激光束的焦點和位置發生變化。

本發明還提供一種基質處理設備，以在即使替換掩模的情況下也能穩定地處理基質。

根據一個示例性實施例，用于修正掩模的傾角的設備包含：掩模支撐主體，所述掩模支撐主體經配置以支撐其上形成有圖案的掩模；掩模支撐主體移動單元，所述掩模支撐主體移動單元經配置以改變掩模支撐主體的XY平面的傾角；照相機單元，所述照相機單元為穿過設置在基質支撐件上的基質的激光束拍照，以產生激光束穿透圖像；以及控制單元，所述控制單元經配置以控制掩模支撐主體移動單元，由此改變掩模的XY平面的傾角，以使得當激光束穿透圖像偏離參考焦點圖像時，所述激光束穿透圖像與所述參考焦點圖像匹配。

所述掩模支撐主體可以包含：掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形狀，所述掩模固持器具有第一、第二、第三和第四頂點，其中掩模被放置在掩模固持器上，并且掩模固持器的XY平面在傾角方面有所變化；掩模載物臺，所述掩模載物臺經配置以支撐其頂部表面上的掩模固持器；以及傾角變化模塊，所述傾角變化模塊經配置以單獨地調節掩模固持器的頂點的Z軸高度，從而改變XY平面的傾角。