[發明專利]用于修正掩模的傾角的設備以及基質處理設備有效
| 申請號: | 201410412432.3 | 申請日: | 2014-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN104423146B | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發明(設計)人: | 梁相熙;白圣煥;金戊一;金鎬巖 | 申請(專利權)人: | AP系統股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/72 | 分類號: | G03F1/72 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道華城市*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 修正 傾角 設備 以及 基質 處理 | ||
1.一種用于修正掩模的傾角的設備,其特征在于,所述設備包括:
掩模支撐主體,所述掩模支撐主體經配置以支撐其上形成有圖案的掩模;
掩模支撐主體移動單元,所述掩模支撐主體移動單元經配置以改變所述掩模支撐主體的XY平面的傾角;
照相機單元,所述照相機單元為穿過所述掩模以及設置在基質支撐件上的基質的線形激光束拍照,以產生激光束穿透圖像,其中所述照相機單元設置在所述基質支撐件中,所述照相機單元包括紅外線照相機和近紅外線照相機中的一者;以及
控制單元,所述控制單元經配置以控制所述掩模支撐主體移動單元,由此改變所述掩模的所述XY平面的所述傾角,以使得當所述激光束穿透圖像偏離參考焦點圖像時,所述激光束穿透圖像與所述參考焦點圖像匹配。
2.根據權利要求1所述的設備,其特征在于,所述掩模支撐主體包括:
掩模固持器,所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形狀,所述掩模固持器具有第一頂點、第二頂點、第三頂點和第四頂點,其中所述掩模放置在所述掩模固持器上,并且所述掩模固持器的所述XY平面的傾角是變化的;
掩模載物臺,所述掩模載物臺經配置以支撐其頂部表面上的所述掩模固持器;以及
傾角變化模塊,所述傾角變化模塊經配置以單獨地調節所述掩模固持器的所述頂點的Z軸高度,以改變所述XY平面的所述傾角。
3.根據權利要求2所述的設備,其特征在于,所述傾角變化模塊包括:
高度調節部分,所述高度調節部分經配置以使所述掩模固持器的所述第一頂點、所述第二頂點和所述第三頂點的所述Z軸高度能夠單獨地升高或降低;以及
支撐主體,所述支撐主體經配置以將所述掩模固持器的所述第四頂點連接到掩模載物臺上。
4.根據權利要求3所述的設備,其特征在于,所述高度調節部分的每一者是在其縱向方向上長度可變地調節的電動機,并且其縱向方向上的兩端分別連接到所述掩模載物臺和所述掩模固持器的一對應頂點上,其中所述對應頂點為所述第一頂點、所述第二頂點與所述第三頂點中與所述高度調節部分的每一者位置對應的頂點。
5.根據權利要求3所述的設備,其特征在于,所述高度調節部分包括:
第一高度調節部分,所述第一高度調節部分經配置以使所述掩模固持器的所述第一頂點的所述Z軸高度能夠升高或降低;
第二高度調節部分,所述第二高度調節部分經配置以使所述掩模固持器的所述第二頂點的所述Z軸高度能夠升高或降低;以及
第三高度調節部分,所述第三高度調節部分經配置以使所述掩模固持器的所述第三頂點的所述Z軸高度能夠升高或降低。
6.根據權利要求3所述的設備,其特征在于,所述掩模支撐主體移動單元進一步包括掩模載物臺移動部分,所述掩模載物臺移動部分經配置以在X軸和Y軸方向上移動所述掩模載物臺并且使所述掩模載物臺旋轉。
7.根據權利要求6所述的設備,其特征在于,當所述激光束穿透圖像偏離參考位置時,所述掩模載物臺移動部分經控制以在X軸和Y軸方向上移動所述掩模載物臺并且使所述掩模載物臺旋轉,以使得所述激光束穿透圖像與所述參考位置匹配。
8.根據權利要求3所述的設備,其特征在于,所述激光束穿透圖像和所述參考焦點圖像中的每一者具有線形,并且當所述激光束穿透圖像具有大于所述參考焦點圖像的厚度時,所述控制單元使所述掩模固持器的所述第一頂點、所述第二頂點和所述第三頂點中的至少一者能夠升高。
9.根據權利要求3所述的設備,其特征在于,所述激光束穿透圖像和所述參考焦點圖像中的每一者具有線形,并且當所述激光束穿透圖像具有小于所述參考焦點圖像的厚度時,所述控制單元使所述掩模固持器的所述第一頂點、所述第二頂點和所述第三頂點中的至少一者能夠降低。
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