[發明專利]用于固持襯底的設備在審
| 申請號: | 201410412139.7 | 申請日: | 2014-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN104425335A | 公開(公告)日: | 2015-03-18 |
| 發明(設計)人: | 梁相熙;白圣煥;金戊一;金鐘元 | 申請(專利權)人: | AP系統股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道華城市*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 襯底 設備 | ||
技術領域
本發明涉及一種用于固持襯底的設備,并且更具體地說涉及一種能夠在固持臺上穩定地固持襯底的設備。
背景技術
總地來說,用于固持襯底的設備安置在用于制造例如液晶顯示器(light?crystal?display,LCD)、有機發光二極管(organic?light?emitting?diode,OLED)等顯示裝置的處理腔室中。通用襯底固持設備包含上面固持著襯底的固持臺,和多個垂直地穿過固持臺并且被抬高的提升桿(lift?bar)。所述提升桿輔助在固持臺上支撐襯底。當襯底位于固持臺上方時,提升桿被提升以支撐襯底的下部部分,并且接著降低以允許在襯底固持臺上固持襯底。
用于例如LCD、OLED等顯示裝置的玻璃襯底的尺寸逐漸增加。當襯底固持設備的所述多個提升桿支撐大型襯底時,襯底會因為自身的重量而發生彎曲,并且在襯底固持在固持臺上時發生滑動。因而,不方便再次對準襯底,并且因此處理時間延長。
第10-2004-0115542號韓國專利公開案中揭示了一種液晶顯示設備的真空裝置。這里,真空裝置包含:基座,上面固持著襯底;頭部,安置成對應于襯底的背面,并且具有對應于基座一側的長度的預定寬度;以及提升桿,由穿過基座以便使頭部在真空腔室中垂直地移動的主體構成。
現有技術文獻
專利文獻
第10-2004-0115542號韓國專利公開案
發明內容
本發明提供一種用于在固持臺上穩定地固持襯底的設備。
本發明還提供一種用于固持襯底的設備,其能夠在固持臺上固持襯底時防止襯底滑動。
根據示范性實施例,一種用于在其頂面上固持襯底的設備包含:固持臺,所述襯底固持在所述固持臺的頂面上;多個抽吸通道(suction?channel),垂直地穿過所述固持臺的至少一個部分,并且所述多個抽吸通道布置在所述固持臺的寬度方向上以通過使用真空吸力來支撐所述襯底;多個通風通道,垂直地穿過所述固持臺的至少一個部分,所述多個通風通道布置在所述固持臺的所述寬度方向上,使得所述多個通風通道位于所述多個抽吸通道之間以通過所述多個通風通道釋放所述襯底與所述固持臺之間的氣體;以及多個襯底支撐件,布置在所述固持臺的所述寬度方向上,所述多個襯底支撐件升高或降低以允許在所述固持臺上加載所述襯底以及從所述固持臺卸載所述襯底。
所述多個抽吸通道的多個部分可以在所述固持臺的X方向上延伸,并且在Y方向上彼此間隔開,并且其余所述多個抽吸通道可以在所述固持臺的Y方向上延伸,并且在所述X方向上彼此間隔開。
在X方向上延伸的抽吸通道與在Y方向上延伸的抽吸通道可以彼此交叉。
所述多個通風通道中的每一個可以界定在所述多個抽吸通道之間,其中所述多個通風通道的多個部分在固持臺的X方向上延伸,并且在Y方向上彼此間隔開,并且其余所述多個通風通道在所述固持臺的Y方向上延伸,并且在X方向上彼此間隔開。
在X方向上延伸的通風通道與在Y方向上延伸的通風通道可以彼此交叉。
所述多個襯底支撐件中支撐所述襯底的邊緣的襯底支撐件的高度可以大于支撐所述襯底的中心區域的支撐件的高度。
所述多個抽吸通道可包含:中心抽吸通道,界定在所述襯底的中心區域在上面支撐在所述固持臺上的區域中;以及周邊抽吸通道,界定在中心抽吸通道外部的周邊中。
所述用于固持襯底的設備可以進一步包含抽吸控制單元,所述抽吸控制單元連接到所述多個抽吸通道,其中所述抽吸控制單元控制所述抽吸通道,使得從中心抽吸通道到周邊抽吸通道以一時間間隔連續地產生真空吸力。
附圖說明
通過結合附圖進行的以下描述可以更詳細地理解示范性實施例,其中:
圖1和圖2是根據示范性實施例的用于固持襯底的設備的三維視圖。
圖3是沿圖1的A-A'線截取的用于固持襯底的設備的橫截面圖。
圖4是沿圖1的B-B'線截取的用于固持襯底的設備的橫截面圖。
圖5至圖8的(b)是說明在襯底固持設備上固持襯底的過程的視圖。
附圖標記說明
100:固持臺
110:主體
120:支撐板
200:通風通道
300:抽吸通道
310:中心抽吸通道
321、322、331、332:抽吸通道
400a、400b:襯底支撐件
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





