[發(fā)明專利]測(cè)試設(shè)備與相關(guān)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410411864.2
• 申請(qǐng)日: 2010-09-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104181449A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邁克勒·瓦佐勒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類號(hào): G01R31/26
• 分類號(hào): G01R31/26;G01R31/28;H01L31/18;H01L21/677
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 徐偉

1.一種用于測(cè)試太陽(yáng)能電池或其他電子裝置的測(cè)試設(shè)備，包括：

用于進(jìn)行測(cè)試的每個(gè)基板(150)的支撐套件(18)，其中所述支撐套件(18)包括多個(gè)測(cè)試孔洞(23)，每個(gè)測(cè)試孔洞(23)適于允許插置所述設(shè)備的相應(yīng)的電氣測(cè)試探針(42)，以使各探針(42)連接和/或接觸所述基板(150)的對(duì)應(yīng)測(cè)試區(qū)；以及

圍繞每個(gè)測(cè)試孔洞(23)的多個(gè)吸引孔洞(24)。

2.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述測(cè)試設(shè)備包括支撐座(16)，所述支撐座(16)實(shí)質(zhì)上為平坦且可在所述支撐座(16)的一個(gè)表面上直接或間接支撐進(jìn)行電氣測(cè)試的至少一個(gè)基板(150)或其它裝置，其中所述支撐座(16)包括多個(gè)貫通孔洞(22)，各貫通孔洞適于插置所述測(cè)試設(shè)備的對(duì)應(yīng)的電氣測(cè)試探針(42)。

3.如權(quán)利要求2所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述測(cè)試設(shè)備包括吸引構(gòu)件(50)，所述吸引構(gòu)件(50)從所述測(cè)試探針(42)所在的同側(cè)布設(shè)在所述支撐座(16)內(nèi)，且可操作地經(jīng)由吸引線(52)而連接至支撐套件(18)中的吸引孔洞(24)，每個(gè)所述套件(18)包含在使用時(shí)可與所述支撐座(16)中的測(cè)試孔洞(22)對(duì)齊的測(cè)試孔洞(23)，以允許相應(yīng)的測(cè)試探針(42)通過(guò)，所述吸引構(gòu)件(50)通過(guò)所述套件(18)中的所述吸引線(52)與所述吸引孔洞(24)，經(jīng)由壓降對(duì)所述基板(150)的表面產(chǎn)生托持動(dòng)作，以與所述測(cè)試探針(42)施加在所述測(cè)試區(qū)上的推擠動(dòng)作相抗衡。

4.如權(quán)利要求1或2所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引構(gòu)件(50)配置成與所述支撐座(16)的各貫通孔洞(22)配合運(yùn)作。

5.如權(quán)利要求3所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引線(52)形成于所述套件(18)中，以限定吸引路徑，所述吸引路徑布設(shè)于各個(gè)所述測(cè)試孔洞(23)附近。

6.如權(quán)利要求3所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引線(52)具有吸引部分，這些吸引部分形成于各個(gè)測(cè)試孔洞(23)周圍且至少部分圍繞各個(gè)測(cè)試孔洞，每個(gè)部分通過(guò)所述吸引孔洞(24)連接至所述套件(18)的上表面。

7.如權(quán)利要求6所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引部分為四邊形。

8.如權(quán)利要求6所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引部分為圓形。

9.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引孔洞(24)的數(shù)量為五個(gè)至十個(gè)。

10.如權(quán)利要求1所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引孔洞(24)的數(shù)量為八個(gè)。

11.如權(quán)利要求6所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述吸引孔洞(24)沿著各個(gè)吸引部分的配置而以規(guī)則方式分隔開(kāi)。

12.如權(quán)利要求1或2所述的測(cè)試設(shè)備，其特征在于，所述支撐座(16)至少部分由非傳導(dǎo)性材料所制成。