[發(fā)明專利]放射線攝像裝置和放射線攝像顯示系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410398317.5 | 申請日: | 2014-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN104425530B | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 山田泰弘 | 申請(專利權(quán))人: | 索尼半導(dǎo)體解決方案公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 陳桂香;曹正建 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 放射線 攝像 裝置 顯示 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明提供了放射線攝像裝置和設(shè)置有該放射線攝像裝置的放射線攝像顯示系統(tǒng),它們能夠抑制漏電流、提高元件的壽命且實現(xiàn)高的可靠性。該放射線攝像裝置包括:多個像素,所述多個像素中的各者被構(gòu)造成生成基于放射線的信號電荷;以及場效應(yīng)晶體管,所述場效應(yīng)晶體管用于從所述多個像素中的各者讀取所述信號電荷。在該放射線攝像裝置中,所述場效應(yīng)晶體管包括:半導(dǎo)體層,所述半導(dǎo)體層包括活性層和被形成為毗鄰所述活性層的低濃度雜質(zhì)層;以及第一柵極電極和第二柵極電極,它們被設(shè)置成彼此面對,且所述活性層介于它們兩者之間。而且,所述第一柵極電極和所述第二柵極電極中的至少一者被設(shè)置于不面對所述低濃度雜質(zhì)層的區(qū)域中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及適用于例如用于醫(yī)學(xué)應(yīng)用和非破壞性檢查的X射線攝影的放射線攝像裝置,并且涉及使用這樣的放射線攝像裝置的放射線攝像顯示系統(tǒng)。
背景技術(shù)
人們已經(jīng)提出了一種例如基于諸如X射線等放射線來獲取圖像信號的放射線攝像裝置(例如,參見日本未經(jīng)審查的專利申請公開第2008-252074號和第2004-265935號)。
在上述放射線攝像裝置中,薄膜晶體管(TFT:thin film transistor)被用作如下的開關(guān)元件:該開關(guān)元件被設(shè)置成從各像素讀取基于放射線的信號電荷。所期望的是,在這樣的晶體管中實現(xiàn)針對于放射線而言極其可靠的元件結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
目前期望提供一種能夠提高可靠性的放射線攝像裝置,以及一種包括這樣的放射線攝像裝置的放射線攝像顯示系統(tǒng)。
根據(jù)本發(fā)明的實施方案而提供了一種放射線攝像裝置,所述放射線攝像裝置包括:多個像素,所述多個像素中的各者被構(gòu)造成生成基于放射線的信號電荷;以及場效應(yīng)晶體管,所述場效應(yīng)晶體管用于從所述多個像素中的各者讀取所述信號電荷。這里,所述場效應(yīng)晶體管包括:半導(dǎo)體層,所述半導(dǎo)體層包括活性層和被形成為毗鄰所述活性層的低濃度雜質(zhì)層;以及第一柵極電極和第二柵極電極,它們兩者被設(shè)置成彼此面對,且所述活性層介于它們兩者之間。而且,所述第一柵極電極和所述第二柵極電極中的至少一者被設(shè)置于不面對所述低濃度雜質(zhì)層的區(qū)域中。
根據(jù)本發(fā)明的實施方案而提供了一種放射線攝像顯示系統(tǒng),所述放射線攝像顯示系統(tǒng)包括:放射線攝像裝置;以及顯示器,所述顯示器被構(gòu)造成執(zhí)行基于由所述放射線攝像裝置獲得的攝像信號的圖像顯示。這里,所述放射線攝像裝置包括:多個像素,所述多個像素中的各者被構(gòu)造成生成基于放射線的信號電荷;以及場效應(yīng)晶體管,所述場效應(yīng)晶體管用于從所述多個像素中的各者讀取所述信號電荷。此外,所述場效應(yīng)晶體管包括:半導(dǎo)體層,所述半導(dǎo)體層包括活性層和被形成為毗鄰所述活性層的低濃度雜質(zhì)層;以及第一柵極電極和第二柵極電極,它們兩者被設(shè)置成彼此面對,且所述活性層介于它們兩者之間。而且,所述第一柵極電極和所述第二柵極電極中的至少一者被設(shè)置于不面對所述低濃度雜質(zhì)層的區(qū)域中。
在根據(jù)本發(fā)明上述各實施方案的放射線攝像裝置和放射線攝像顯示系統(tǒng)中,在用于從各像素讀取信號電荷的場效應(yīng)晶體管中,第一柵極電極和第二柵極電極被設(shè)置成彼此面對且活性層介于它們兩者之間。而且,第一柵極電極和第二柵極電極中的至少一者被設(shè)置于不面對低濃度雜質(zhì)層的區(qū)域中。因此,抑制了在所述晶體管的截止時間出現(xiàn)的漏電流,并且提高了元件的壽命。
根據(jù)本發(fā)明上述各實施方案的放射線攝像裝置和放射線攝像顯示系統(tǒng),在用于從各像素讀取信號電荷的場效應(yīng)晶體管中,第一柵極電極和第二柵極電極被設(shè)置成彼此面對且活性層介于它們兩者之間。而且,第一柵極電極和第二柵極電極中的至少一者被設(shè)置于不面對低濃度雜質(zhì)層的區(qū)域中。因此,就使得能夠提高元件的壽命。于是,就使得能夠增加可靠性。
需要理解的是,前面的一般說明和下面的詳細說明都僅是示例性的,且旨在提供對本發(fā)明所要求保護的技術(shù)的進一步說明。
附圖說明
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





