[發明專利]用于襯底雙面圖案形成的方法和系統

在審

• 申請號: 201410398086.8
• 申請日: 2006-11-30
• 公開（公告）號: CN104317161A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: B-J·喬伊;S·V·斯利尼瓦森
• 申請（專利權）人: 分子制模股份有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 管琦琦

本申請是PCT國際申請號為PCT/US/2006/046256、PCT國際申請日為2006年11月30日、中國國家申請號為200680046274.8的、題為“用于襯底雙面圖案形成的方法和系統”的發明專利申請的分案申請。

相關申請的交叉引用

本申請要求對2005年12月8日提交的題為“Apparatus?for?and?Methods?for?Imprinting,Aligning?and?Separation”(用于雙面壓印的壓印、對準和分離的裝置和方法)的美國臨時申請No.60/748,430的優先權。

技術領域

本發明一般涉及結構的納米制造，尤其涉及襯底的雙面圖案形成的方法和系統。

背景技術

納米制造涉及極小結構，例如特征尺寸為納米級或更小的結構的制造。其中納米制造具有相當大的影響的一個領域是集成電路加工。隨著半導體加工業界繼續在增加襯底上形成的每單位面積的電路的同時爭取更大的產品成品率，納米制造變得日益重要。納米制造提供更多的過程控制同時允許所形成結構的最小特征尺寸不斷減小。其它已經使用納米制造的發展領域包括生物技術、光學技術、機械系統等等。

示例性的納米制造技術通常稱為壓印光刻。在很多公開文獻中對示例性的壓印光刻工藝進行了詳細的描述，諸如提交為美國專利申請10/264,960的題為“Method?and?a?Mold?to?Arrange?Features?on?a?substrate?to?Replicate?Features?having?Minimal?Dimensional?Variability”(在襯底上安排特征以復制具有最小尺寸可變性的特征的方法和模型)的美國專利申請公開2004/0065976；提交為美國專利申請10/264,926的題為“Method?of?Foring?a?Layer?on?a?Substrate?to?Facilitate?Fabrication?of?Metrology?Standards”(在襯底上形成層以便于度量學標準的制作的方法)的美國專利申請公開2004/0065252；以及題為“Functional?Patterning?Material?for?Imprint?Lithography?Processes”(用于壓印光刻工藝的功能性圖案形成材料)，所有這些都被轉讓給了本發明的受讓人。

在以上提及的美國專利申請公開和美國專利中的每一個中公開的壓印光刻技術包括在可聚合層中形成凹凸圖案，以及將對應于凹凸圖案的圖案轉移到下面的襯底上。襯底可以被置于移動載物臺上以獲得期望的位置從而便于其圖案形成。為此，采用與襯底間隔開的模板且在模板和襯底之間存在可成形液體。液體被凝固以形成其中記錄有圖案的凝固層，該圖案符合與液體接觸的模板的表面的形狀。該模板然后與凝固層分離使得模板和襯底是間隔開的。襯底和凝固層然后進行加工以將對應于凝固層中圖案的凹凸圖案轉移到襯底中。

在一些應用中，可能期望在襯底的第一和第二相反兩面上形成凹凸圖案。在襯底的第一和第二相反兩面上形成圖案，即雙面圖案形成，可能對圖案形成媒介壓印領域有益。所以，存在提供襯底的雙面圖案形成的方法和系統的需要。

發明內容

本發明公開了一種用模具組件使襯底形成圖案的方法，所述襯底具有第一和第二相反兩面，所述方法包括以下步驟：獲得所述襯底和所述模具組件之間的第一空間關系以使所述襯底的所述第一面與所述模具組件疊加，所述模具組件和所述襯底的所述第一面使一材料置于它們之間；用所述模具組件以所述材料在所述襯底的所述第一面形成圖案，從而限定第一圖案形成層；獲得所述襯底和所述模具組件之間的不同于所述第一空間關系的第二空間關系以使所述襯底的所述第二面與所述模具組件疊加，所述模具組件和所述襯底的所述第二面使一材料置于它們之間；以及用所述模具組件以所述材料在所述襯底的所述第二面上形成圖案，從而限定第二圖案形成層。并且，上述的方法獲得所述第二空間關系的步驟可進一步包括翻轉所述襯底的步驟。并且，上述的方法獲得所述第二空間關系的步驟可進一步包括將所述襯底相對所述模具組件翻轉180°的步驟。