[發(fā)明專利]用于襯底雙面圖案形成的方法和系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410398086.8 | 申請日: | 2006-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN104317161A | 公開(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | B-J·喬伊;S·V·斯利尼瓦森 | 申請(專利權(quán))人: | 分子制模股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 管琦琦 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 襯底 雙面 圖案 形成 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種用模具組件使襯底形成圖案的方法,所述襯底具有第一和第二相反兩面,所述方法包括以下步驟:
將所述襯底置于具有空腔的襯底夾具上,所述襯底的所述第一面朝向所述模具組件且所述襯底的所述第二面朝向所述襯底夾具;
用光學(xué)檢測系統(tǒng)確定所述襯底和所述模具組件之間的第一空間關(guān)系,及獲得所述第一空間關(guān)系以使所述襯底的所述第一面與所述模具組件疊加,所述模具組件和所述襯底的所述第一面使一材料置于它們之間;
用所述模具組件以所述材料在所述襯底的所述第一面形成圖案,從而限定第一圖案形成層;
用光學(xué)檢測系統(tǒng)確定所述襯底和所述模具組件之間的第二空間關(guān)系,及獲得不同于所述第一空間關(guān)系的所述第二空間關(guān)系以使所述襯底的所述第二面與所述模具組件疊加,所述模具組件和所述襯底的所述第二面使一材料置于它們之間,其中獲得所述第二空間關(guān)系包括:將所述襯底置于所述襯底夾具上使得所述第一圖案形成層在所述襯底夾具的所述空腔內(nèi),以最小化在所述襯底的所述第二面形成圖案期間對所述第一圖案形成層的損壞;以及
用所述模具組件以所述材料在所述襯底的所述第二面上形成圖案,從而限定第二圖案形成層。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,獲得所述第二空間關(guān)系的步驟進(jìn)一步包括翻轉(zhuǎn)所述襯底的步驟。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,獲得所述第二空間關(guān)系的步驟進(jìn)一步包括將所述襯底相對所述模具組件翻轉(zhuǎn)180°的步驟。
4.一種使襯底形成圖案的方法,所述襯底具有第一和第二相反兩面,所述方法包括以下步驟:
將所述襯底置于具有空腔的襯底夾具上,所述襯底的所述第一面朝向第一模具組件且所述襯底的所述第二面朝向所述襯底夾具;
將材料置于所述襯底的所述第一面上;
用光學(xué)檢測系統(tǒng)確定所述襯底和第一模具組件之間的第一空間關(guān)系,及獲得所述第一空間關(guān)系以使襯底的所述第一面與所述第一模具組件疊加;
用所述第一模具組件以所述材料在所述襯底上的所述第一面上形成圖案,從而限定第一圖案形成層;
將材料置于所述襯底的所述第二面上;
用光學(xué)檢測系統(tǒng)確定所述襯底和第二模具組件之間的第二空間關(guān)系,及獲得不同于所述第一空間關(guān)系的所述第二空間關(guān)系以使所述襯底的所述第二面與所述第二模具組件疊加;
用所述第二模具組件以所述材料在所述襯底的所述第二面上形成圖案,從而限定第二圖案形成層;
將所述第二模具組件與所述襯底的所述第二面上的所述材料分離;
將所述襯底夾具置于使其與所述襯底疊加;以及
將所述第一模具組件與所述襯底的所述第一面上的所述材料分離以使得所述襯底置于所述襯底夾具上并且所述襯底的所述第二面上的所述材料置于所述襯底夾具的所述空腔內(nèi)以最小化對所述襯底的所述第二面上的所述材料的損壞。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,以所述材料在所述襯底的所述第一面上形成所述圖案的步驟進(jìn)一步包括將所述襯底與所述第一模具組件耦連以使所述材料可被置于所述襯底的所述第二面上的步驟。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于分子制模股份有限公司,未經(jīng)分子制模股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410398086.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





