[發明專利]顯示面板在審
| 申請號: | 201410393640.3 | 申請日: | 2014-08-12 |
| 公開(公告)號: | CN105336871A | 公開(公告)日: | 2016-02-17 |
| 發明(設計)人: | 沈義和;莊耿介 | 申請(專利權)人: | 群創光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L27/32;H01L27/02 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 中國臺灣*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板,包括:
一基板;
一薄膜晶體管單元,設置于該基板上,且該薄膜晶體管單元包括一柵極電極及一半導體層,其中該半導體層包含一載子通道區,且該柵極電極對應該載子通道區設置;
一第一金屬氧化層,設置于該半導體層上且覆蓋該載子通道區;以及
一包含氧化硅或三氧化二鋁的隔離層,該隔離層設置于該半導體層與該第一金屬氧化層之間;
其中,波長范圍介于210nm至350nm間的光線通過該第一金屬氧化層的穿透率為50%以下。
2.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該隔離層的面積大于或等于該第一金屬氧化層的面積。
3.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該第一金屬氧化層的成份為氧化鈦、氧化鉬、氧化鋅、氧化銦、氧化鎢、氧化鎂、氧化鈣、氧化錫、氧化鎵、氧化銦鎵鋅或氧化鋁。
4.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該第一金屬氧化層的厚度為30nm至100nm。
5.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該隔離層的厚度為5nm至20nm。
6.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該薄膜晶體管單元是一上柵極式薄膜晶體管單元或一下柵極式薄膜晶體管單元。
7.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該薄膜晶體管單元還包括一源極電極與一漏極電極,該源極電極與該漏極電極設置于該半導體層上方,該第一金屬氧化層設置于該半導體層以及該源極電極與該漏極電極之間。
8.如權利要求7所述的顯示面板,其中還包含一第二金屬氧化層,該第二金屬氧化層設置于該源極電極與該漏極電極上方并覆蓋該源極電極與該漏極電極。
9.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該薄膜晶體管單元還包括一源極電極與一漏極電極,該第一金屬氧化層設置于該源極電極與該漏極電極上方并覆蓋該源極電極與該漏極電極。
10.如權利要求1所述的顯示面板,其中,該第一金屬氧化層包覆該半導體層的一側壁。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于群創光電股份有限公司,未經群創光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410393640.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





