[發(fā)明專利]ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410387915.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104166285A | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉玉華;方鳳軍;陳立;譚偉;杜曉峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 宜昌南玻顯示器件有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/135 | 分類號(hào): | G02F1/135 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 生啟 |
| 地址: | 443000*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | ito 導(dǎo)電 玻璃 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于LCD的無(wú)色高透ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)
ITO導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基片或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上,利用磁控濺射的方法依次沉積二氧化硅(SiO2)和氧化銦錫(通稱ITO)薄膜加工制作成的。
ITO是一種具有良好透明導(dǎo)電性能的金屬化合物,具有禁帶寬、可見光譜區(qū)光透射率高和電阻率低等特性,ITO導(dǎo)電玻璃廣泛地應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、特殊功能窗口涂層及其他光電器件領(lǐng)域,是目前LCD、PDP、OLED、觸摸屏等各類平板顯示器件廣泛采用的透明導(dǎo)電電極材料。作為平板顯示器件的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料,ITO導(dǎo)電玻璃其隨著平板顯示器件的不斷更新和升級(jí)而具有更加廣闊的市場(chǎng)空間。
LCD用ITO導(dǎo)電玻璃多采用在玻璃上鍍SiO2+ITO兩層膜結(jié)構(gòu),最高透過(guò)率達(dá)不到90%,且ITO導(dǎo)電玻璃的透過(guò)率隨ITO膜層厚度變化而呈現(xiàn)周期性變化,在個(gè)別ITO膜層厚度時(shí)透過(guò)率低至77%左右,影響LCD的視覺效果。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要提供一種在使用時(shí)視覺效果較好的ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法。
一種ITO導(dǎo)電玻璃,用于LCD,包括依次層疊的玻璃、第一低折射率層、第一高折射率層、第二低折射率層、第二高折射率層、第三低折射率層以及ITO層;
所述第一低折射率層的材料為SiO2或MgF2;
所述第一高折射率層的材料為Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第二低折射率層的材料為SiO2或MgF2;
所述第二高折射率層的材料為Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4;
所述第三低折射率層的材料為SiO2或MgF2;
所述第一低折射率層的厚度為
所述第一高折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述第一低折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述第一高折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述第二低折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述第二高折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述第三低折射率層的厚度為
在一個(gè)實(shí)施例中,所述ITO導(dǎo)電玻璃的面電阻為5歐姆~7歐姆、10歐姆~15歐姆、12歐姆~17歐姆、14歐姆~20歐姆、17歐姆~25歐姆、20歐姆~30歐姆、30歐姆~45歐姆、35歐姆~50歐姆、40歐姆~60歐姆、60歐姆~80歐姆、80歐姆~120歐姆、100歐姆~150歐姆、125歐姆~200歐姆等。
在一個(gè)實(shí)施例中,所述ITO層的厚度為
一種ITO導(dǎo)電玻璃的制備方法,包括如下步驟:
提供玻璃,清洗后干燥;
在清洗后的所述玻璃表面依次磁控濺射沉積第一低折射率層、第一高折射率層、第二低折射率層、第二高折射率層、第三低折射率層和ITO層,得到所述ITO導(dǎo)電玻璃,其中,所述第一低折射率層的材料為SiO2或MgF2,所述第一高折射率層的材料為Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4,所述第二低折射率層的材料為SiO2或MgF2,所述第二高折射率層的材料為Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4,所述第三低折射率層的材料為SiO2或MgF2,所述第一低折射率層的厚度為所述第一高折射率層的厚度為
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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