[發明專利]感光性樹脂組合物

有效

• 申請號: 201410386793.5
• 申請日: 2010-05-19
• 公開（公告）號: CN104111584A
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發明（設計）人: 國松真一;小谷雄三
• 申請（專利權）人: 旭化成電子材料株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種感光性樹脂組合物，其包含40～90質量％(A)堿可溶性樹脂、5～50質量％(B)具有烯屬不飽和雙鍵的化合物、1～20質量％(C)光聚合引發劑、0.001～2.5質量％(D)環氧硅烷化合物及0.005～1.0質量％(E)硫醇化合物。

2.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(E)硫醇化合物為下述通式(I)所示的硫醇化合物：

HS-R₁···(1)

式中，R₁為具有芳香性的基團。

3.根據權利要求2所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(E)通式(I)所示的硫醇化合物是該式中R₁具有芳香性的雜環化合物。

4.根據權利要求2所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(E)通式(I)所示的硫醇化合物為下述通式(II)所示的化合物：

式中，R₂為選自由SH、SR₃OR₄及NR₃R₄組成的組中的一種基團，R₃及R₄分別獨立地為選自由H、碳原子數1～12的烷基及芳基組成的組中的一種基團。

5.根據權利要求2所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(E)硫醇化合物為下述通式(III)所示的化合物：

式中，R₅為選自由碳原子數1～3的烷基、碳原子數1～3的烷氧基、碳原子數1～3的烷硫基、SH及NR₆R₇組成的組中的一種基團，R₆及R₇分別獨立地為選自由H、碳原子數1～12的烷基及芳基組成的組中的一種基團。

6.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(D)環氧硅烷化合物為下述通式(IV)所示的化合物：

(R₈O)₃Si-A-B···(IV)

式中，R₈為碳原子數1～5的烷基，A為碳原子數1～4的烷基或-(D-O)_n-，D為碳原子數1～3的烷基，n為1～5的整數，B為具有下述通式(V)所示的官能團的基團，

7.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中，前述(A)堿可溶性高分子與前述(B)具有烯屬不飽和雙鍵的化合物的質量比為1.5～1.8:1。

8.一種感光性樹脂層壓體，其是在支撐薄膜上層壓由權利要求1～7中任一項所述的感光性樹脂組合物形成的感光性樹脂層而成的。

9.一種抗蝕圖案形成方法，其特征在于，其包括以下工序：將權利要求8所述的感光性樹脂層壓體層壓到透明電極上的層壓工序；對該層壓體進行曝光的曝光工序；以及對該曝光后的層壓體進行顯影的顯影工序。

10.一種電極的制造方法，其特征在于，按照通過權利要求9所述的圖案形成方法得到的抗蝕圖案對前述透明電極進行蝕刻。

11.一種抗蝕圖案形成方法，其特征在于，其包括以下工序：將權利要求8所述的感光性樹脂層壓體層壓到鐵系合金上的層壓工序；對該層壓體進行曝光的曝光工序；以及對該曝光后的層壓體進行顯影的顯影工序。

12.一種鐵系合金結構體的制造方法，其特征在于，按照通過權利要求11所述的圖案形成方法得到的抗蝕圖案對前述鐵系合金進行蝕刻。