[發明專利]一種石墨烯生長設備及其制備石墨烯的方法有效
| 申請號: | 201410385467.2 | 申請日: | 2014-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN105314625B | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發明(設計)人: | 周振義;劉志成;張文國;鄧科文;張志華;楊海濤;張旭磊 | 申請(專利權)人: | 常州二維碳素科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B32/184 | 分類號: | C01B32/184 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 徐琳淞 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨烯 沉積裝置 降溫裝置 進料裝置 預熱裝置 生長設備 傳送機構 傳輸板 生長基 真空閥 制備 進氣口 大面積石墨烯 大尺寸產品 傳送傳輸 耐高溫輥 生產效率 生長周期 依次設置 傳送帶 抽氣口 連續式 生長 生產 | ||
1.一種石墨烯生長設備,其特征在于:包括多個真空閥(5),依次設置在相鄰兩個真空閥(5)之間的進料裝置(1)、預熱裝置(2)、沉積裝置(3)和降溫裝置(4),以及生長基底(6)和傳輸板(7);所述生長基底(6)放置在傳輸板(7)的表面;所述進料裝置(1)、預熱裝置(2)、沉積裝置(3)和降溫裝置(4)依次傳送傳輸板(7);所述進料裝置(1)和降溫裝置(4)內的傳送機構均采用傳送帶(8);所述預熱裝置(2)和沉積裝置(3)內的傳送機構均采用耐高溫輥道(9);傳送帶(8)和耐高溫輥道(9)的傳動速率均為20mm~200mm/min;所述進料裝置(1)、預熱裝置(2)、沉積裝置(3)和降溫裝置(4)上均設有進氣口(10)和抽氣口(11);真空閥(5)為真空插板閥;所述降溫裝置(4)內的傳送帶(8)下方設有升降式換熱平臺(15)。
2.根據權利要求1所述的一種石墨烯生長設備,其特征在于:所述預熱裝置(2)和沉積裝置(3)內均設有加熱部件(12)。
3.根據權利要求1所述的一種石墨烯生長設備,其特征在于:所述沉積裝置(3)內設有進氣管(13);所述進氣管(13)一端開口,另一端封閉;所述進氣管(13)的開口端與沉積裝置(3)上的進氣口(10)連接;所述進氣管(13)的表面分布有多個進氣孔。
4.根據權利要求1所述的一種石墨烯生長設備,其特征在于:所述降溫裝置(4)的頂部還設有排熱風扇(14)。
5.根據權利要求1所述的一種石墨烯生長設備,其特征在于:所述進料裝置(1)、預熱裝置(2)、沉積裝置(3)和降溫裝置(4)的底部均設有支撐腿(16)。
6.根據權利要求1所述的一種石墨烯生長設備,其特征在于:所述耐高溫輥道(9)與預熱裝置(2)及沉積裝置(3)之間通過高溫密封圈(17)密封。
7.一種使用石墨烯生長設備制備石墨烯的方法,其特征在于:包括以下步驟:
①、將生長基底(6)放于傳輸板(7)表面,打開進樣裝置(1)入口的真空閥(5),將生長基底(6)和傳輸板(7)放入進樣裝置(1)中的傳送帶(8)上,同時關閉進樣裝置(1)入口的真空閥(5);
②、通過進樣裝置(1)上的抽氣口(11),將進樣裝置(1)入口的真空閥(5)中的壓力抽到0.1-100pa;然后通過進樣裝置(1)上的進氣口(10)向進樣裝置(1)中通入惰性氣體進行沖洗;
③、待壓力到常壓后重復沖洗兩次,然后進樣裝置(1)中的傳輸帶(8)傳動生長基底(6)和傳輸板(7)準備進入預熱裝置(2);
④、打開進料裝置(1)與預熱裝置(2)之間的真空閥(5),將生長基底(6)和傳輸板(7)傳動到預熱裝置(2),然后關閉進料裝置(1)與預熱裝置(2)之間的真空閥(5),生長基底(6)和傳輸板(7)在預熱裝置(2)的耐高溫輥道(9)的帶動下傳動到裝置內指定位置;
⑤、生長基底(6)和傳輸板(7)在預熱裝置(2)內進行高溫預處理,其中氫氣流量為10-200sccm,惰性氣體流量為500-1000sccm,加熱溫度為700-900℃,預處理時間為10-30min;
⑥、預處理完成后,打開預熱裝置(2)與沉積裝置(3)之間的真空閥(5),生長基底(6)和傳輸板(7)通過預熱裝置(2)的耐高溫輥道(9)傳送進入沉積裝置(3),然后關閉預熱裝置(2)與沉積裝置(3)之間的真空閥(5),生長基底(6)和傳輸板(7)在沉積裝置(3)的耐高溫輥道(9)的帶動下傳動到裝置內指定位置;
⑦、沉積裝置(3)對生長基底(6)和傳輸板(7)進行二次升溫,準備沉積;
⑧、達到沉積溫度后,通過沉積裝置(3)內的進氣管(13)通入含碳類氣體和催化氣體,開始在生長基底(6)上沉積石墨烯;
⑨、沉積結束后,開啟沉積裝置(3)與降溫裝置(4)之間的真空閥(5),沉積裝置(3)的耐高溫輥道(9)將生長基底(6)和傳輸板(7)傳送進入降溫裝置(4),然后關閉沉積裝置(3)與降溫裝置(4)之間的真空閥(5),并通入惰性氣體,控制氣體流量500-1000sccm,同時升降式換熱平臺(15)上升,排熱風扇(14)開啟,對生長基底(6)和傳輸板(7)進行快速降溫;
⑩、生長基底(6)和傳輸板(7)冷卻后,開啟降溫裝置(4)出口的真空閥(5),取出生長基底(6)和傳輸板(7)。
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