[發明專利]一種掩膜板和曝光方法

在審

• 申請號: 201410384302.3
• 申請日: 2014-08-06
• 公開（公告）號: CN104166303A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 王寶強;樸相鎮
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種掩膜板和曝光方法。

背景技術

在液晶顯示器的制作過程中，需要經過多次構圖工藝以形成各層結構。通常構圖工藝包括在涂覆光刻膠、使用掩膜板遮蓋、曝光、顯影、刻蝕、剝離光刻膠等步驟。

具體地，掩膜板包括遮光圖案和透光圖案，示例性地，當構圖工藝中基板上涂覆的光刻膠為正性光刻膠時，曝光過程中，掩膜板上的遮光圖案遮擋住光線，使得遮光圖案下方的光刻膠未被光線照射，光刻膠沒有發生變性，在后續的顯影過程中保留，掩膜板上的透光圖案使得光線透過，進而照射到透光圖案下方的光刻膠上，光刻膠變性，在顯影過程中溶解。在后續的刻蝕工藝中，無光刻膠覆蓋的膜層被刻蝕掉，光刻膠覆蓋的膜層保留，最后剝離光刻膠，從而形成一層結構。

發明人發現，現有技術中，一張掩膜板上的遮光圖案和透光圖案固定，因此，使用一張掩膜板只能形成一層結構，進而使得在液晶顯示器的制作過程中，需要使用的掩膜板的數量較多，從而使得液晶顯示器的成本高、產能低、競爭力差。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于提供一種掩膜板和曝光方法，使用該掩膜板能夠形成多層結構。

為解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種掩膜板，采用如下技術方案：

一種掩膜板包括至少兩個疊加的子掩膜板，每個所述子掩膜板包括遮光圖案和透光圖案，所有所述遮光圖案在所述掩膜板上的垂直投影無交疊。

所述掩膜板還包括透明的保護膜，所述保護膜位于所述子掩膜板靠近光源一側。

所述子掩膜板還包括透明的襯底基板，所述遮光圖案位于所述襯底基板上，所述遮光圖案的材質為鉻。

本發明實施例提供了一種掩膜板，該掩膜板包括至少兩個疊加的子掩膜板，每個子掩膜板包括遮光圖案和透光圖案，所有遮光圖案在掩膜板上的垂直投影無交疊，在一次構圖工藝中，曝光光線聚焦于一個子掩膜板上，僅一個子掩膜板上的遮光圖案遮光，由于曝光光線的衍射，從而使得曝光光線未聚焦的其他子掩膜板上的遮光圖案下方有光線通過，從而使得在一次構圖工藝中可以將一個子掩膜板上的遮光圖案或者透光圖案轉移至基板上，形成一層結構，因此，經過多次構圖工藝，在每次構圖工藝中將曝光光線分別聚焦于不同的子掩膜板上，使用該掩膜板即可形成多層結構，降低了液晶顯示器制作過程中掩膜板的使用數量，降低了成本，提高了產能，進而提高競爭力。

為了進一步解決上述技術問題，本發明實施例還提供了一種曝光方法，采用如下技術方案：

一種曝光方法包括：至少兩個曝光過程，每個所述曝光過程包括：

在基板上形成光刻膠；

使用掩膜板遮蓋形成有所述光刻膠的所述基板，所述掩膜板包括至少兩個疊加的子掩膜板，每個所述子掩膜板包括遮光圖案和透光圖案，所有所述遮光圖案在所述掩膜板上的垂直投影無交疊；

使曝光光線聚焦于一個所述子掩膜板上，對所述光刻膠進行曝光；

其中，在不同的所述曝光過程中，使所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上。

所述在不同的所述曝光過程中，使所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括：

在不同的所述曝光過程中，所述曝光光線的波長相同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光圖案上方同一高度的聚光結構的焦距不同，不同的所述聚光結構使所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上。

所述在不同的所述曝光過程中，使所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括：

在不同的所述曝光過程中，所述曝光光線的波長不同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光圖案上方同一高度的聚光結構的焦距相同，所述聚光結構使波長不同的所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上。

所述在不同的所述曝光過程中，使所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上，包括：

在不同的所述曝光過程中，所述曝光光線的波長相同，位于不同的所述子掩膜板上的所述遮光圖案上方的聚光結構的焦距相同，不同的所述聚光結構距離所述掩膜板的距離不同，所述聚光結構使波長相同的所述曝光光線聚焦于不同的所述子掩膜板上。

所述聚光結構為凸透鏡。